| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-51页 |
| ·纳米磁性材料 | 第14-45页 |
| ·纳米材料发展概况 | 第14-15页 |
| ·纳米材料的特殊效应 | 第15-16页 |
| ·纳米磁性材料的制备方法 | 第16-39页 |
| ·纳米磁性材料的特殊性质 | 第39-42页 |
| ·纳米磁性材料的应用 | 第42-45页 |
| ·NiZn铁氧体纳米颗粒和纳米薄膜的研究意义 | 第45-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 第二章 理论基础 | 第51-72页 |
| ·尖晶石型铁氧体的晶体结构和磁性 | 第51-55页 |
| ·尖晶石铁氧体的结构 | 第51-52页 |
| ·尖晶石铁氧体的阳离子分布 | 第52-53页 |
| ·尖晶石铁氧体的磁性来源 | 第53-55页 |
| ·穆斯堡尔效应和超精细相互作用理论 | 第55-62页 |
| ·基本原理 | 第56-58页 |
| ·核与环境间的超精细相互作用 | 第58-62页 |
| ·磁谱与高频磁损耗理论 | 第62-71页 |
| ·复数磁导率 | 第63-64页 |
| ·高频磁谱的基本理论 | 第64-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第三章 样品的制备方法 | 第72-83页 |
| ·Zn铁氧体纳米颗粒和NiZn铁氧体的制备方法 | 第72-76页 |
| ·PVA溶胶凝胶法 | 第72-73页 |
| ·NaOH共沉淀法 | 第73-74页 |
| ·低温固相反应法 | 第74-76页 |
| ·NiZn铁氧体纳米薄膜的交替射频磁控双靶溅射方法 | 第76-82页 |
| ·溅射发生的原理 | 第77-78页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第78-79页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第79页 |
| ·靶材的准备 | 第79-80页 |
| ·NiZn铁氧体薄膜的制备 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-83页 |
| 第四章 实验测试与分析方法 | 第83-105页 |
| ·结构分析和晶体参数确定-X射线衍射(XRD) | 第83-84页 |
| ·颗粒形貌观察和结构确定-透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射(SAED) | 第84-86页 |
| ·表面形貌观察-扫描电子显微镜(SEM) | 第86-87页 |
| ·室温下宏观磁性的测量-振动样品磁强计(VSM) | 第87页 |
| ·超精细相互作用研究-透射穆斯堡尔谱(MS)和内转换电子穆斯堡尔谱(CEMS) | 第87-93页 |
| ·透射式穆斯堡尔谱仪及其低温杜瓦装置 | 第88-91页 |
| ·内转换电子穆斯堡尔谱(CEMS) | 第91-93页 |
| ·超导量子干涉仪(SQUID) | 第93页 |
| ·阻抗分析仪(IA)及相关测试夹具 | 第93-99页 |
| ·高频阻抗测量原理和技术 | 第93-95页 |
| ·磁导率测试方法及磁导率测量夹具16454A | 第95-98页 |
| ·介电谱测试方法及介电谱测试夹具16451B | 第98-99页 |
| ·矢量网络分析仪(VNA)及相关测试夹具 | 第99-104页 |
| ·矢量网络分析仪与S参数 | 第99-101页 |
| ·单端口短路微带线 | 第101-104页 |
| 参考文献 | 第104-105页 |
| 第五章 低温固相反应法制备的ZnFe_2O_4纳米颗粒的结构、形貌及磁性 | 第105-126页 |
| ·ZnFe_2O_4的磁性和研究进展 | 第105-107页 |
| ·ZnFe_2O_4纳米颗粒的制备 | 第107-109页 |
| ·低温固相反应法 | 第107-108页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第108-109页 |
| ·NaOH共沉淀法 | 第109页 |
| ·ZnFe_2O_4纳米颗粒的晶体结构和形貌 | 第109-112页 |
| ·ZnFe_2O_4纳米颗粒室温下的宏观磁性 | 第112-114页 |
| ·ZnFe_2O_4纳米颗粒的超精细相互作用-透射M(o|¨)ssbauer谱的研究 | 第114-116页 |
| ·ZnFe_2O_4纳米颗粒低温下的宏观磁性 | 第116-118页 |
| ·不同方法制备得到的ZnFe_2O_4纳米颗粒晶体结构、室温宏观磁性及微观磁性比较 | 第118-122页 |
| ·小结 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-126页 |
| 第六章 NaOH共沉淀法制备的的NiZn铁氧体Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4的磁性 | 第126-141页 |
| ·NiZn铁氧体的磁性和研究进展 | 第126-127页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4 | 第127-138页 |
| ·NaOH共沉淀法对Ni_xZn_(1-X)Fe_2O_4的制备 | 第127-128页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_xZn_(1-X)Fe_2O_4的晶体结构和形貌 | 第128-133页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4烧结体的宏观磁性 | 第133-134页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4烧结体的高频磁性 | 第134-138页 |
| ·小结 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-141页 |
| 第七章 NaOH共沉淀制备Cu替代的NiZn铁氧体Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的高频电磁特性 | 第141-156页 |
| ·研究背景 | 第141-142页 |
| ·NaOH共沉淀法制备Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的工艺条件 | 第142-143页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的晶体结构和微观形貌 | 第143-147页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的宏观磁性 | 第147-148页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的高频磁性 | 第148-149页 |
| ·NaOH共沉淀法制备的Ni_(0.15)Cu_(0.2)Zn_(0.65)Fe_2O_4的高频介电性能和电阻率 | 第149-152页 |
| ·小结 | 第152-154页 |
| 参考文献 | 第154-156页 |
| 第八章 射频交替靶溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构、形貌和磁性 | 第156-177页 |
| ·NiZn铁氧体薄膜的研究现状 | 第156-158页 |
| ·射频交替溅射制备Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜的制备条件 | 第158页 |
| ·制备条件对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜性能的影响 | 第158-164页 |
| ·单元层厚度对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜磁性的影响 | 第158-159页 |
| ·氧分压对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜性能的影响 | 第159-160页 |
| ·ZnFe_2O_4衬底层对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜性能的影响 | 第160页 |
| ·热处理时间对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜性能的影响 | 第160-161页 |
| ·热处理温度对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4薄膜性能的影响 | 第161-164页 |
| ·薄膜成分对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4性能的影响 | 第164-169页 |
| ·膜厚对Ni_xZn_(1-x)Fe_2O_4性能的影响 | 第169-173页 |
| ·小结 | 第173-175页 |
| 参考文献 | 第175-177页 |
| 第九章 结论与展望 | 第177-181页 |
| ·本论文的主要结论 | 第177-180页 |
| ·对将来工作的展望 | 第180-181页 |
| 附录:博士论文工作期间发表的学术论文 | 第181-183页 |
| 致谢 | 第183页 |
