| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-40页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·CMOS 器件的等比例缩小法则 | 第13-15页 |
| ·MOSFET 的简介 | 第13页 |
| ·等比例缩小法则 | 第13-15页 |
| ·SiO_2栅介质的局限性 | 第15-18页 |
| ·超薄SiO_2的特性 | 第15-16页 |
| ·超薄SiO_2对器件性能的影响 | 第16-17页 |
| ·超薄SiO_2的可靠性 | 第17-18页 |
| ·硼扩散与穿透 | 第18页 |
| ·超薄SiO_2生长和均匀性的限制 | 第18页 |
| ·高介电常数栅介质材料的要求 | 第18-25页 |
| ·介电常数 | 第19-20页 |
| ·界面能带偏移（界面势垒高度） | 第20-22页 |
| ·热稳定性要求 | 第22-23页 |
| ·栅介质形态 | 第23页 |
| ·良好的界面特性 | 第23-24页 |
| ·处理工艺的兼容性 | 第24页 |
| ·具有良好的可靠性和稳定性 | 第24-25页 |
| ·高介电常数栅介质材料的研究现状与进展 | 第25-35页 |
| ·IIIA 和IIIB 族金属氧化物 | 第25-27页 |
| ·IVB 族（Ti、Zr、Hf）氧化物 | 第27-31页 |
| ·VB 族（Ta）氧化物 | 第31-32页 |
| ·伪二元化合物 | 第32-34页 |
| ·三元化合物 | 第34-35页 |
| ·高介电薄膜制备技术 | 第35-38页 |
| ·化学气相淀积（CVD） | 第35-37页 |
| ·物理气相淀积（PVD） | 第37-38页 |
| ·论文的研究内容和研究意义 | 第38-40页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第38-39页 |
| ·论文的研究意义 | 第39-40页 |
| 第二章 实验原理及相关物理基础 | 第40-51页 |
| ·溅射镀膜 | 第40-43页 |
| ·溅射现象 | 第40页 |
| ·溅射镀膜的分类 | 第40-43页 |
| ·影响薄膜生长过程的工艺参数 | 第43页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第43-51页 |
| ·椭圆偏振仪的简介 | 第43-44页 |
| ·椭圆偏振的应用 | 第44-45页 |
| ·椭圆偏振法测量原理 | 第45-48页 |
| ·椭圆偏振光谱分析 | 第48-51页 |
| 第三章 HfO_xN_y 薄膜的制备及其物性研究 | 第51-65页 |
| ·HfO_xN_y 栅介质薄膜的制备 | 第51-53页 |
| ·薄膜淀积系统 | 第51-52页 |
| ·准备靶材 | 第52页 |
| ·衬底的清洗 | 第52-53页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备及其性能研究 | 第53-64页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备 | 第53-54页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的结构分析 | 第54-55页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的光电子能谱分析 | 第55-58页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的光学特性研究 | 第58-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 衬底温度对HfO_xN_y 薄膜相关物性的影响 | 第65-74页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备 | 第65页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备 | 第65页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的物性研究 | 第65-73页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜光电子能谱分析 | 第65-66页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜界面特性的研究 | 第66-68页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的表面形貌分析 | 第68-69页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的光学特性的研究 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 氧化铪靶制备HfO_xN_y 薄膜及其相关物性研究 | 第74-81页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备 | 第74页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备 | 第74页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的物性研究 | 第74-80页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜结构分析 | 第74-75页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的光电子能谱分析 | 第75-76页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的界面分析 | 第76-77页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的表面形貌分析 | 第77-78页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的光学特性研究 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第六章HfO_2-Al_2O_3纳米复合薄膜的微结构和界面特性初步探讨 | 第81-87页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3复合薄膜的制备 | 第81页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3薄膜的制备 | 第81页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3 薄膜的物性研究 | 第81-86页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3薄膜的结构物性 | 第81-82页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3薄膜的界面分析 | 第82-84页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3薄膜的光学特性 | 第84-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 第七章 总结和展望 | 第87-90页 |
| ·研究总结 | 第87-89页 |
| ·HfO_xN_y 薄膜的制备及其物性研究 | 第87-88页 |
| ·HfO_2-Al_2O_3 复合薄膜的制备及其物性研究 | 第88-89页 |
| ·研究展望 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-107页 |
| 附录：攻读博士期间发表论文 | 第107-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
