| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| ·CVD 金刚石膜制备技术的发展及应用 | 第13-16页 |
| ·CVD 金刚石膜制备技术的发展 | 第13-15页 |
| ·CVD 金刚石膜的制备方法 | 第15-16页 |
| ·EACVD 金刚石膜生长设备的研究现状 | 第16-18页 |
| ·EACVD 金刚石膜生长设备的构成 | 第17-18页 |
| ·EACVD 金刚石膜生长设备的研究现状 | 第18页 |
| ·本文的研究背景和主要工作 | 第18-20页 |
| 第二章 小型化设备的主体系统设计 | 第20-37页 |
| ·主体系统的总体设计方案 | 第21-24页 |
| ·设备的小型化实现方案 | 第21页 |
| ·小型化设备的基本参数设计 | 第21-24页 |
| ·真空系统的设计 | 第24-28页 |
| ·真空反应室炉体结构设计 | 第24-27页 |
| ·真空反应室炉体厚度设计 | 第27-28页 |
| ·电极系统的设计 | 第28-31页 |
| ·衬底工作台的设计 | 第31-34页 |
| ·衬底工作台的设计要求 | 第31-32页 |
| ·摆动衬底工作台的实现 | 第32-34页 |
| ·进排气系统的设计 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 控制系统的硬件设计 | 第37-53页 |
| ·控制系统的总体方案设计 | 第37-39页 |
| ·工艺参数对制备金刚石膜的影响 | 第37-38页 |
| ·控制系统硬件结构 | 第38-39页 |
| ·信号检测系统的实现 | 第39-47页 |
| ·热丝与衬底温度的检测 | 第40-43页 |
| ·反应气体浓度的检测 | 第43-44页 |
| ·真空室气压的检测 | 第44-45页 |
| ·热丝电流与偏流的检测 | 第45-47页 |
| ·控制与执行系统的实现 | 第47-52页 |
| ·控制主机的选择 | 第47-50页 |
| ·调压模块的实现 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 摆动衬底温度场仿真 | 第53-62页 |
| ·衬底摆动参数的优化 | 第53-54页 |
| ·摆动参数对衬底温度场的影响仿真 | 第54-59页 |
| ·静止、转动与摆动状态下温度场仿真与比较 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 基于SIMULINK 与NCD 模块的衬底温度控制研究与仿真 | 第62-92页 |
| ·衬底温度控制方案的设计 | 第62-65页 |
| ·控制算法设计 | 第62-64页 |
| ·衬底温度控制模型 | 第64-65页 |
| ·衬底温度PID 控制器的设计 | 第65-71页 |
| ·PID 控制器参数的整定 | 第65-67页 |
| ·衬底温度PID 控制器仿真与优化 | 第67-71页 |
| ·衬底温度模糊控制器的设计 | 第71-78页 |
| ·模糊控制器的工作原理 | 第71-72页 |
| ·模糊控制器的设计实现 | 第72-76页 |
| ·模糊控制器的仿真与优化 | 第76-78页 |
| ·衬底温度模糊PID 复合控制器设计与仿真 | 第78-85页 |
| ·模糊PID 混合控制器的设计与仿真 | 第78-80页 |
| ·模糊PID 自整定控制器的设计与仿真 | 第80-85页 |
| ·控制器鲁棒性和抗干扰性能分析 | 第85-91页 |
| ·控制器抗干扰性能仿真 | 第85-87页 |
| ·控制器的鲁棒性仿真 | 第87-90页 |
| ·仿真结果分析 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-92页 |
| 第六章 总结与展望 | 第92-94页 |
| ·总结 | 第92-93页 |
| ·展望 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第98页 |