六硼化镧场发射阴极阵列的制备工艺研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-8页
第一章 引言	第8-13页
·课题研究背景	第8-9页
·课题研究意义	第9-12页
·本论文的主要工作内容及意义	第12-13页
第二章 场致电子发射	第13-19页
·金属场致电子发射	第13-15页
·场致电子发射的稳定性	第15-16页
·半导体场致电子发射	第16-19页
第三章 场发射阴极阵列（FEA）	第19-26页
·场发射阴极阵列研究进程	第19-20页
·场发射阴极阵列分类	第20页
·场发射阴极阵列的制备	第20-23页
·场发射阴极阵列的实际应用	第23-26页
第四章 六硼化镧场发射阴极阵列的制备	第26-44页
·六硼化镧的材料特性	第26-29页
·六硼化镧场发射阴极阵列的制备	第29-37页
·六硼化镧场发射阴极阵列的制备	第37-44页
第五章 实验结果与讨论	第44-59页
·电化学腐蚀法实验结果与讨论	第44-50页
·氧化蒸发刻蚀法实验结果与讨论	第50-53页
·等离子体轰击刻蚀法实验结果与讨论	第53-59页
第六章 结束语	第59-61页
致谢	第61-62页
参考文献	第62-65页
个人简历	第65页
硕士研究生期间发表的论文	第65-66页