| 第一章 引言 | 第1-16页 |
| ·回旋管的发展及应用 | 第9-10页 |
| ·回旋管的工作机理 | 第10-12页 |
| ·回旋速调管 | 第12-13页 |
| ·双阳极磁控注入电子枪 | 第13-15页 |
| ·本学位论文的主要工作与贡献 | 第15-16页 |
| 第二章 回旋管电子光学系统基本理论 | 第16-33页 |
| ·EGUN 软件的简介 | 第16页 |
| ·回旋电子光学系统的基本理论与分析 | 第16-22页 |
| ·模拟计算中主要参量的计算方法 | 第22-28页 |
| ·电位计算 | 第22-24页 |
| ·EGUN 中电子枪边界的处理 | 第24页 |
| ·EGUN 中电子枪中电流的模拟 | 第24页 |
| ·磁场的计算 | 第24-26页 |
| ·正交场中空间电荷流的严格解析解 | 第26-28页 |
| ·回旋电子枪的场方程和螺旋电子注数字模拟方程 | 第28-31页 |
| ·阴极半径和引导中心半径 | 第31-33页 |
| 第三章 8ｍｍ回旋速调管放大器双阳极磁控注入电子枪的设计与优化 | 第33-50页 |
| ·回旋管整体结构 | 第33-34页 |
| ·回旋速调管对双阳极磁控注入电子枪的要求 | 第34-36页 |
| ·电子枪的结构设计和优化 | 第36-39页 |
| ·多种因素对电子注质量的影响 | 第39-50页 |
| ·第一阳极电压对电子注质量的影响 | 第39-40页 |
| ·电极倾角对电子注质量的影响 | 第40-42页 |
| ·电极间距及电压对电子注质量的影响 | 第42-45页 |
| ·磁场和第一阳极电压对电子注质量的影响 | 第45-46页 |
| ·第二阳极电压对电子注质量的影响 | 第46-48页 |
| ·注电流对电子注质量的影响 | 第48-50页 |
| 第四章 设计与优化所得双阳极磁控注入电子枪 | 第50-54页 |
| ·优化后双阳极磁控注入电子枪的结构 | 第50-53页 |
| ·优化电子枪的一些措施 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 附录 | 第57-59页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第59页 |