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CVD法在不同基底上制备碳纳米管及其机制研究

第1章 引言第1-24页
   ·背景第8-17页
     ·纳米材料第8-9页
     ·碳纳米管的发现第9-10页
     ·碳纳米管的结构、性能与应用第10-13页
     ·碳纳米管的制备第13-17页
   ·碳纳米管的选择性生长现象第17-23页
   ·选题意义及论文内容安排第23-24页
第2章 实验方法及分析仪器第24-28页
   ·实验方法第24-25页
     ·基底清洗第24页
     ·实验过程第24-25页
   ·实验结果的分析与表征第25-28页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第25-26页
     ·透射电子显微镜(TEM)及高分辨透射电子显微镜(HRTEM)第26-27页
     ·拉曼光谱(Raman Spectroscopy)第27页
     ·场发射电流测量(Field-Emission Measurement)第27-28页
第3章 基底图形化研究第28-34页
   ·实验方法第28-29页
   ·实验结果与讨论第29-32页
   ·小结第32-34页
第4章 CNTs 在Fe/Si 图形化基底上的生长研究第34-42页
   ·碳纳米管的制备第34-35页
     ·基底图形化第34-35页
     ·实验步骤第35页
   ·实验结果与讨论第35-41页
   ·小结第41-42页
第5章 CNTs 在Si 基底上的生长研究第42-50页
   ·碳纳米管的制备与表征第43-46页
     ·实验过程第43页
     ·实验条件与结果第43-46页
   ·机制分析第46-49页
   ·小结第49-50页
第6章 CNTs 在Au/Si 图形化基底上的生长研究第50-61页
   ·实验过程第50-51页
     ·基底图形化第50页
     ·实验方案第50-51页
   ·实验结果与讨论第51-53页
   ·机制分析第53-55页
   ·小结第55-61页
致谢第61-62页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第62页

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