| 摘要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·国内外对介质氧化物超晶格薄膜研究的发展动态 | 第9-14页 |
| ·铁电超晶格薄膜的结构特点 | 第9-10页 |
| ·铁电超晶格材料及其性能 | 第10-11页 |
| ·衬底和电极材料的选择 | 第11-12页 |
| ·介质超晶格薄膜的生长技术 | 第12-14页 |
| ·介质氧化物超晶格薄膜的应用及前景 | 第14-16页 |
| ·实验研究目的和任务 | 第16-18页 |
| 第二章 实验方案与思路 | 第18-25页 |
| ·超晶格薄膜的制备工艺 | 第18-20页 |
| ·LMBE 实验设备 | 第18-19页 |
| ·L-MBE 成膜原理及其优势 | 第19-20页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜微结构分析方法 | 第20-23页 |
| ·RHEED 对薄膜的分析原理 | 第20-22页 |
| ·小角X 射线衍射(SAXRD)方法原理 | 第22-23页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜的电学性能测试 | 第23-24页 |
| ·整个实验流程 | 第24-25页 |
| 第三章 LAO/BTO 超晶格薄膜的生长及结构分析 | 第25-36页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜生长过程分析 | 第26-32页 |
| ·基片表面的处理 | 第26-28页 |
| ·基片温度对基片表面平整度的影响 | 第26-27页 |
| ·LAO 缓冲层的影响 | 第27-28页 |
| ·BTO 层和 LAO 层的生长分析 | 第28-29页 |
| ·生长过程中的晶格变化 | 第29-32页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜的界面结构分析 | 第32-36页 |
| ·θ-2θ扫描的XRD 分析结果 | 第32-33页 |
| ·小角X 射线衍射技术(SAXRD)对超晶格薄膜界面结构分析 | 第33-36页 |
| 第四章 LAO/BTO 超晶格薄膜的电学性能的分析研究 | 第36-47页 |
| ·钙钛矿结构铁电晶体自发极化产生的微观机理 | 第36-39页 |
| ·铁电超晶格薄膜宏观极化增强理论 | 第39-41页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜铁电性能分析 | 第41-45页 |
| ·LAO 上缓冲层结构对超晶格薄膜铁电性能的影响 | 第41页 |
| ·LAO/BTO 超晶格薄膜总厚度对铁电性能的影响 | 第41-42页 |
| ·周期(单层厚度)对铁电性能的影响 | 第42-44页 |
| ·超晶格薄膜对称性对铁电性能的影响 | 第44-45页 |
| ·铁电超晶格薄膜的介电性能分析 | 第45-47页 |
| 第五章 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 个人简历 | 第52页 |
