| 第1章 引言 | 第1-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-31页 |
| 2．1 原料与试剂 | 第25-26页 |
| 2．2 仪器分析 | 第26-28页 |
| 2．3 样品制备工艺 | 第28-31页 |
| 第3章 纳米粒子的制备过程与结构表征 | 第31-61页 |
| 3．1 溶胶-凝胶法SiO_2纳米粒子的制备 | 第31-34页 |
| 3．2 溶胶-凝胶法制备的SiO_2纳米粒子的表面改性 | 第34-36页 |
| 3．3 SiO_2纳米粒子的结构表征 | 第36-43页 |
| 3．3．1 分子量 | 第36-37页 |
| 3．3．2 硅含量 | 第37-38页 |
| 3．3．3 羟基含量 | 第38-41页 |
| 3．3．4 分子结构式的确定 | 第41-43页 |
| 3．4 裂解剂对溶胶-凝胶法制备SiO_2纳米粒子过程及产物结构的影响 | 第43-48页 |
| 3．4．1 裂解剂对反应产率的影响 | 第43页 |
| 3．4．2 裂解剂对储存稳定性的影响 | 第43-44页 |
| 3．4．3 裂解剂对分子量的影响 | 第44-45页 |
| 3．4．4 裂解剂对硅含量的影响 | 第45-47页 |
| 3．4．5 裂解剂对羟基含量的影响 | 第47-48页 |
| 3．5 SiO_2纳米粒子的表面接枝率与HEA反应转化率的关系 | 第48-51页 |
| 3．6 表面改性对SiO_2纳米粒子结构的影响 | 第51-53页 |
| 3．7 硅溶胶中SiO_2纳米粒子的表面改性 | 第53-61页 |
| 3．7．1 表面改性反应机理及表征 | 第53-59页 |
| 3．7．2 偶联剂的用量对储存稳定性的影响 | 第59-61页 |
| 第4章 光固化纳米复合材料的形态结构研究 | 第61-83页 |
| 4．1 用TEM技术研究SiO_2纳米粒子在复合材料中的分布 | 第61-63页 |
| 4．2 用FTIR-ATR技术研究纳米粒子在复合材料中的分布 | 第63-83页 |
| 4．2．1 ATR入射角与穿透深度的关系 | 第63-64页 |
| 4．2．2 ATR谱分析峰的确定 | 第64-66页 |
| 4．2．3 纳米粒子沿膜厚度方向上的分布 | 第66-83页 |
| 第5章 光固化纳米复合材料的物理机械性能研究 | 第83-94页 |
| 5．1 纳米SiO_2对材料折光指数的影响 | 第83页 |
| 5．2 纳米SiO_2对材料耐磨性的影响 | 第83-84页 |
| 5．3 纳米SiO_2粒子对材料力学性能的影响 | 第84-94页 |
| 5．3．1 不同的纳米粒子对材料模量的影响 | 第84-87页 |
| 5．3．2 不同的纳米粒子对材料断裂伸长和能量的影响 | 第87-89页 |
| 5．3．3 不同的纳米粒子对材料断裂应力的影响 | 第89-90页 |
| 5．3．4 纳米粒子对不同的基体材料力学性能的影响 | 第90-94页 |
| 第6章 结论 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
