水热合成ZnO稀磁半导体的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 1 文献综述 | 第13-29页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·水热技术的研究概况 | 第14-18页 |
| ·水热制备技术的发展 | 第14-15页 |
| ·水热制备技术的主要特点 | 第15-17页 |
| ·水热制备技术的分类 | 第17页 |
| ·水热合成设备 | 第17-18页 |
| ·ZnO 的基本性能 | 第18-21页 |
| ·ZnO 结构 | 第18-20页 |
| ·ZnO 半导体的能隙 | 第20页 |
| ·ZnO 半导体的电学性质 | 第20页 |
| ·ZnO 在半导体光电方面的应用前景 | 第20-21页 |
| ·稀磁半导体材料及其研究进展 | 第21-28页 |
| ·磁学基础知识 | 第21-23页 |
| ·半导体磁性的来源 | 第23-25页 |
| ·稀磁半导体特性 | 第25-26页 |
| ·稀磁材料发展概况 | 第26-28页 |
| ·课题研究意义 | 第28-29页 |
| 2 实验仪器与测试 | 第29-35页 |
| ·实验方案 | 第29页 |
| ·实验仪器 | 第29-31页 |
| ·试样制备类 | 第29-30页 |
| ·测试分析类 | 第30-31页 |
| ·粉体测试与分析 | 第31-35页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第31-32页 |
| ·禁带宽度分析 | 第32-33页 |
| ·能谱分析 | 第33-34页 |
| ·磁性测试 | 第34-35页 |
| 3 Zn_(1-x)Ni_xO 的制备与分析 | 第35-48页 |
| ·Zn_(1-x)Ni_xO 的实验制备 | 第35-36页 |
| ·实验药品 | 第35页 |
| ·实验内容 | 第35-36页 |
| ·制备工艺 | 第36页 |
| ·Zn_(1-x)Ni_xO 性能测试分析 | 第36-47页 |
| ·矿化剂种类对粉体的影响 | 第36-38页 |
| ·矿化剂浓度对粉体的影响 | 第38-42页 |
| ·掺杂量对粉体的影响 | 第42-44页 |
| ·前驱物制备方法对粉体的影响 | 第44-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 4 Zn_(1-x)Cr_xO 的制备与分析 | 第48-56页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO 的实验制备 | 第48-49页 |
| ·实验药品 | 第48页 |
| ·实验内容 | 第48-49页 |
| ·Zn_(1-x)Cr_xO 性能测试分析 | 第49-55页 |
| ·矿化剂种类及浓度对DMS 的的影响 | 第49-50页 |
| ·反应温度对DMS 的影响 | 第50页 |
| ·反应时间对DMS 的影响 | 第50-51页 |
| ·搅拌时间对DMS 的影响 | 第51页 |
| ·掺杂量对DMS 的影响 | 第51-53页 |
| ·紫外吸收测试分析DMS | 第53-54页 |
| ·磁滞回线测试分析DMS | 第54页 |
| ·能谱测试分析DMS | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-56页 |
| 5 Zn_(1-x)Co_xO 的制备与分析 | 第56-60页 |
| ·Zn_(1-x)Co_xO 的实验制备 | 第56页 |
| ·实验药品 | 第56页 |
| ·实验内容 | 第56页 |
| ·Zn_(1-x)Co_xO 性能测试分析 | 第56-59页 |
| ·温度和掺杂量不同对粉体制备的影响 | 第56-57页 |
| ·吸收光谱分析 | 第57-58页 |
| ·磁性能分析 | 第58页 |
| ·扫描电镜分析 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 6 Zn_(1-x)Mn_xO 的制备与分析 | 第60-63页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO 的实验制备 | 第60页 |
| ·实验药品 | 第60页 |
| ·实验内容 | 第60页 |
| ·掺杂量及矿化剂浓度对粉体制备的影响 | 第60-62页 |
| ·扫描电镜分析 | 第61-62页 |
| ·磁性能分析 | 第62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 7 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
