适用高频SAW器件的AlN（100）制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·研究背景 | 第9页 |
| ·声表面波及声表面波器件的概念 | 第9-11页 |
| ·声表面波器件的原理和分类 | 第11-14页 |
| ·声表面波器件原理 | 第11-13页 |
| ·声表面波器件分类 | 第13-14页 |
| ·声表面波器件的研究现状和发展趋势 | 第14-15页 |
| ·声表面波器件的研究现状 | 第14-15页 |
| ·声表面波器件的发展趋势 | 第15页 |
| ·薄膜声表面波器件 | 第15-16页 |
| ·本文的立项依据和研究内容 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第二章 AlN 与压电薄膜介绍 | 第18-29页 |
| ·AlN 薄膜概述 | 第18-21页 |
| ·AlN 薄膜的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·AlN 薄膜的性质及应用 | 第19-20页 |
| ·AlN 薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
| ·压电薄膜 | 第21-28页 |
| ·压电材料 | 第21-22页 |
| ·压电效应 | 第22-24页 |
| ·压电系数和压电方程式 | 第24-25页 |
| ·压电系数测量方法概述 | 第25-27页 |
| ·压电材料性能参数 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 AlN（100）的制备 | 第29-40页 |
| ·AlN 的制备方法 | 第29-30页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·常用的制备方法 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射法 | 第30-33页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第30-32页 |
| ·溅射特征 | 第32页 |
| ·（100）择优取向 AlN 薄膜的制备步骤 | 第32-33页 |
| ·沉积参数对 AlN（100）制备的影响 | 第33-39页 |
| ·X 射线衍射（XRD）——表征手段 | 第33-34页 |
| ·工作压强对 AlN（100）薄膜的影响 | 第34-36页 |
| ·溅射功率对 AlN（100）薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·影响趋势 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 AlN（100）的性能研究 | 第40-46页 |
| ·AlN（100）薄膜的 PFM 测试分析原理 | 第40-43页 |
| ·PFM 测试的发展 | 第40页 |
| ·PFM 检测的原理 | 第40-43页 |
| ·AlN（100）压电薄膜的 PFM 检测 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论与展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
