| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·热控涂层 | 第9-14页 |
| ·热控原理 | 第10-11页 |
| ·涂料型热控涂层种类 | 第11-13页 |
| ·空间环境及其对热控涂层的影响 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状及分析 | 第14-16页 |
| ·无机/无机粒子的包覆技术 | 第16-21页 |
| ·Sol-Gel 技术 | 第16-18页 |
| ·异质絮凝法 | 第18-19页 |
| ·渗透法 | 第19页 |
| ·非均相沉淀法 | 第19页 |
| ·逐层自组装 | 第19-21页 |
| ·研究目的与内容 | 第21-23页 |
| 第2章 材料、设备与试验方法 | 第23-28页 |
| ·材料与试剂 | 第23-24页 |
| ·试验设备与试验参数 | 第24-26页 |
| ·压制样品设备与压制参数 | 第24页 |
| ·辐照设备与辐照参数 | 第24-26页 |
| ·分析测试方法 | 第26-28页 |
| ·透射电镜(TEM) 分析 | 第26页 |
| ·扫描电镜(SEM) 分析 | 第26页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第26页 |
| ·光谱反射率测试 | 第26-27页 |
| ·光致发光分析 | 第27-28页 |
| 第3章 合成核壳型ZnO/SiO_x包覆粒子的工艺研究 | 第28-47页 |
| ·合成ZnO/SiO_x 包覆粒子的原理 | 第28-31页 |
| ·合成ZnO/SiO_x 包覆粒子工艺流程 | 第31页 |
| ·合成ZnO/SiO_x 包覆粒子试验结果及影响因素讨论 | 第31-40页 |
| ·ZnO 加入顺序的影响 | 第32-33页 |
| ·反应温度的影响 | 第33-35页 |
| ·催化剂的选取与用量 | 第35-37页 |
| ·TEOS 加入量的影响 | 第37-38页 |
| ·加入分散剂的影响 | 第38-40页 |
| ·试验结果表征 | 第40-46页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第40-41页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第41-44页 |
| ·XRD 分析 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 ZnO/SiO_x核壳结构粒子质子辐照损伤效应与机理分析 | 第47-68页 |
| ·颜料预处理及试样压制 | 第47页 |
| ·质子辐照前试样光学性能 | 第47-51页 |
| ·ZnO 颜料的光学特性 | 第47-48页 |
| ·纳米二氧化硅光学性能 | 第48-49页 |
| ·ZnO/SiO_x 包覆改性颜料的光学性能 | 第49-51页 |
| ·质子辐照下ZnO/SiO_x 包覆颜料的光学性能退化规律 | 第51-58页 |
| ·ZnO/SiO_x 包覆颜料质子辐照试验方案 | 第51-52页 |
| ·光谱反射率的变化 | 第52-56页 |
| ·太阳吸收比的变化 | 第56-58页 |
| ·质子辐照ZnO/SiO_x 包覆颜料光学性能损伤机理分析 | 第58-66页 |
| ·质子辐照对材料损伤的一般原理 | 第58-59页 |
| ·质子辐照下ZnO 包覆改性颜料的损伤 | 第59-60页 |
| ·ZnO/SiO_x 包覆颜料的光致发光谱分析 | 第60-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
