钐钴基高温稀土永磁材料的制备与磁性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| ·引子 | 第11-12页 |
| ·稀土永磁的研究现状与发展趋势 | 第12-16页 |
| ·钐钴化合物的晶体结构与磁学特性 | 第12-14页 |
| ·钐钴永磁薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·稀土永磁的发展动向 | 第15-16页 |
| ·论文的选题和主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 钐钴基烧结永磁体的制备与磁性能研究 | 第18-37页 |
| ·引子 | 第18页 |
| ·制备工艺对钐钴基磁体磁性能的影响 | 第18-28页 |
| ·球磨时间对磁体磁性能的影响 | 第18-21页 |
| ·烧结处理对磁体磁性能的影响 | 第21-26页 |
| ·时效处理对磁体磁性能的影响 | 第26-28页 |
| ·成分对磁体的晶体结构和磁性能的影响 | 第28-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 钐钴基磁体在周期永磁聚焦系统中的应用 | 第37-54页 |
| ·引子 | 第37页 |
| ·轴向磁化磁环的磁场空间分布规律 | 第37-44页 |
| ·解析法求解磁环的轴向磁场分布 | 第37-41页 |
| ·有限元法求解磁环的轴向磁场分布 | 第41-44页 |
| ·PPM系统轴向周期磁场的实现 | 第44-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 钐钴基永磁薄膜的溅射工艺研究 | 第54-77页 |
| ·引子 | 第54页 |
| ·溅射态合金薄膜的成分 | 第54-62页 |
| ·溅射机制与溅射产额 | 第54-61页 |
| ·薄膜的SPMC模型 | 第61-62页 |
| ·溅射参数对薄膜成分的影响 | 第62-67页 |
| ·溅射参数对薄膜微观结构的影响 | 第67-73页 |
| ·溅射参数对薄膜沉积速率的影响 | 第67-68页 |
| ·溅射参数对薄膜表面形貌和晶体结构的影响 | 第68-73页 |
| ·溅射参数对薄膜磁性能的影响 | 第73-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 钐钴基永磁薄膜的晶化过程研究 | 第77-97页 |
| ·引子 | 第77页 |
| ·薄膜晶化过程的实验研究 | 第77-83页 |
| ·薄膜晶化过程的动力学分析 | 第83-91页 |
| ·晶化工艺对薄膜磁性能的影响 | 第91-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 第六章 钐钴基永磁薄膜矫顽力的改善研究 | 第97-114页 |
| ·引子 | 第97页 |
| ·薄膜厚度对矫顽力的影响 | 第97-103页 |
| ·基片温度对矫顽力的影响 | 第103-107页 |
| ·缓冲层对矫顽力的影响 | 第107-112页 |
| ·本章小结 | 第112-114页 |
| 第七章 钐钴基永磁薄膜高温应用初步研究 | 第114-131页 |
| ·引子 | 第114页 |
| ·薄膜的高温磁学特性 | 第114-124页 |
| ·薄膜的磁路设计与计算 | 第124-130页 |
| ·本章小结 | 第130-131页 |
| 第八章 结论 | 第131-135页 |
| ·主要结论与创新点 | 第131-134页 |
| ·有待深入研究的问题 | 第134-135页 |
| 致谢 | 第135-136页 |
| 参考文献 | 第136-143页 |
| 攻博期间取得的研究成果 | 第143-145页 |
