| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-29页 |
| ·来自大自然的灵感 | 第11-12页 |
| ·出淤泥而不染的奥秘 | 第11页 |
| ·水上溜冰者 | 第11-12页 |
| ·蝉翼 | 第12页 |
| ·表面润湿理论基础 | 第12-24页 |
| ·接触角与杨氏方程 | 第12-13页 |
| ·前进接触角，后退接触角与接触角滞后 | 第13-15页 |
| ·滚动角 | 第15页 |
| ·表面粗糙效应 | 第15-17页 |
| ·各向异性润湿 | 第17-23页 |
| ·聚合物表面浸润性 | 第23-24页 |
| ·超疏水聚合物表面纳米结构制备 | 第24-28页 |
| ·等离子体处理法 | 第24页 |
| ·电纺法 | 第24-25页 |
| ·相分离法 | 第25页 |
| ·应力释放法 | 第25-26页 |
| ·模板法 | 第26-27页 |
| ·其它方法 | 第27-28页 |
| ·本文的立题思想 | 第28-29页 |
| 第二章 微纳米波浪形沟槽的制备及疏水性研究 | 第29-51页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·实验部分 | 第30-35页 |
| ·主要实验原料和实验仪器 | 第30-31页 |
| ·PDMS 沟槽的热固化收缩法制备 | 第31-32页 |
| ·PDMS 薄条的制备 | 第32页 |
| ·PDMS 薄条的冷却收缩法制备 | 第32页 |
| ·PDMS 薄条的侧向应力法制备 | 第32-33页 |
| ·PDMS 薄条的应力释放法制备 | 第33页 |
| ·大纵宽比PDMS 沟槽的制备 | 第33-34页 |
| ·二层嵌套波浪形沟槽制备 | 第34-35页 |
| ·测试和表征 | 第35页 |
| ·光学显微镜分析 | 第35页 |
| ·接触角测试分析 | 第35页 |
| ·扫描电镜分析（SEM） | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-50页 |
| ·热固化法制备的表面沟槽 | 第35-37页 |
| ·固化PDMS 薄条 | 第37-38页 |
| ·冷却收缩法制备的表面沟槽 | 第38-39页 |
| ·侧向应力法制备的表面沟槽 | 第39-40页 |
| ·应力释放法制备的表面沟槽 | 第40-45页 |
| ·大纵宽比沟槽及其疏水性 | 第45-49页 |
| ·二层沟槽形貌及其疏水性 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 AAO 模板制备高分子纳米阵列及疏水性研究 | 第51-68页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·实验部分 | 第52-55页 |
| ·主要实验原料和实验仪器 | 第52-53页 |
| ·阳极氧化铝模板（AAO）的制备 | 第53-54页 |
| ·溶液旋涂法制备高分子纳米阵列 | 第54-55页 |
| ·单体聚合法制备高分子纳米阵列 | 第55页 |
| ·热压印法制备高分子纳米阵列 | 第55页 |
| ·测试和表征 | 第55页 |
| ·扫描电镜分析（SEM） | 第55页 |
| ·接触角测试分析（CＡ） | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-66页 |
| ·预图案化铝片及其高分子复型的疏水性 | 第55-56页 |
| ·多孔氧化铝模板形貌结构 | 第56-58页 |
| ·溶液法制备的高分子表面纳米阵列结构 | 第58-59页 |
| ·单体聚合法制备的高分子表面纳米阵列结构 | 第59-60页 |
| ·热压印法制备的高分子表面纳米阵列结构及疏水性 | 第60-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第四章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |