| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 VO_2基智能窗 | 第10-16页 |
| 1.1.1 VO_2的结构及性质 | 第11-13页 |
| 1.1.2 VO_2薄膜的研究进展及VO_2基智能窗面临的挑战 | 第13-16页 |
| 1.2 用作VO_2缓冲层材料的研究进展 | 第16-18页 |
| 1.3 低温制备VO_2薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
| 1.4 本文的主要研究内容及创新点 | 第19-21页 |
| 第2章 VO_2薄膜的制备及表征方法 | 第21-26页 |
| 2.1 VO_2薄膜的制备方法 | 第21-22页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积(PLD)法 | 第21页 |
| 2.1.2 溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第21页 |
| 2.1.3 磁控溅射法 | 第21-22页 |
| 2.2 VO_2薄膜的表征方法 | 第22-26页 |
| 2.2.1 X射线衍射 | 第22-23页 |
| 2.2.2 四探针法 | 第23页 |
| 2.2.3 紫外-可见-红外分光光度计 | 第23-24页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 2.2.5 拉曼光谱仪 | 第25-26页 |
| 第3章 氧流量对VO_2/ZnO双层膜性能的影响 | 第26-39页 |
| 3.1 综述 | 第26-27页 |
| 3.2 实验数据处理及分析 | 第27-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 ZnO缓冲层工艺对VO_2薄膜性能的影响 | 第39-50页 |
| 4.1 综述 | 第39-40页 |
| 4.2 ZnO缓冲层厚度对VO_2薄膜性能的影响 | 第40-46页 |
| 4.3 ZnO缓冲层的氧流量和衬底温度对VO_2薄膜性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 衬底温度对ZnO缓冲层上VO_2薄膜性能的影响 | 第50-61页 |
| 5.1 综述 | 第50-52页 |
| 5.2 实验数据处理及分析 | 第52-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第6章 负偏压对VO_2/ZnO双层膜性能的影响 | 第61-70页 |
| 6.1 综述 | 第61-62页 |
| 6.2 实验数据处理及分析 | 第62-68页 |
| 6.3 本章小结 | 第68-70页 |
| 第7章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第81页 |
