| 中文摘要 | 第6-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 碳纳米片简介 | 第12页 |
| 1.3 碳纳米片/墙的制备 | 第12-13页 |
| 1.4 碳纳米片的特性和应用 | 第13-14页 |
| 1.5 金刚石薄膜作为场发射冷阴极材料 | 第14-16页 |
| 1.5.1 金刚石的结构 | 第14页 |
| 1.5.2 金刚石的性质 | 第14-15页 |
| 1.5.3 金刚石薄膜作为场发射冷阴极材料 | 第15-16页 |
| 1.6 本论文研究目标 | 第16-17页 |
| 第二章 场发射理论基础 | 第17-21页 |
| 2.1 隧穿效应 | 第17页 |
| 2.2 场发射理论 | 第17-18页 |
| 2.3 场发射评价指标 | 第18-19页 |
| 2.4 场发射材料的选择标准 | 第19页 |
| 2.5 碳纳米片在冷阴极场发射显示器中的优势及存在的问题 | 第19-21页 |
| 第三章 主要实验设备介绍 | 第21-34页 |
| 3.1 衬底预处理细化实验流程 | 第21-24页 |
| 3.1.1 硅片预处理 | 第21页 |
| 3.1.2 陶瓷片机械研磨 | 第21-22页 |
| 3.1.3 超声清洗仪 | 第22-24页 |
| 3.2 金刚石碳纳米片复合材料的制备设备 | 第24-30页 |
| 3.2.1 金刚石/碳纳米片复合薄膜制备流程图 | 第24页 |
| 3.2.2 电子束蒸发 | 第24-27页 |
| 3.2.3 微波等离子体化学沉积系统 | 第27-30页 |
| 3.3 复合材料特性表征 | 第30-34页 |
| 3.3.1 光学显微镜(OM) | 第30页 |
| 3.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| 3.3.3 X射线衍射(XRD) | 第31页 |
| 3.3.4 激光拉曼光谱 | 第31页 |
| 3.3.5 高真空场发射测试系统 | 第31-34页 |
| 第四章 金刚石/碳纳米片复合薄膜材料的制备及场发射性能研究 | 第34-56页 |
| 4.1 金刚石薄膜的制备 | 第34-38页 |
| 4.1.1 硅片的预处理 | 第34-35页 |
| 4.1.2 金刚石薄膜制备工艺 | 第35页 |
| 4.1.3 金刚石薄膜的结构表征 | 第35-36页 |
| 4.1.4 金刚石薄膜场发射特性检测 | 第36-38页 |
| 4.2 无催化的金刚石/碳纳米片的制备 | 第38-48页 |
| 4.2.1 碳纳米片的制备过程 | 第38页 |
| 4.2.2 工艺参数对碳纳米片的影响 | 第38-46页 |
| 4.2.3 在金刚石膜上无催化制备碳纳米片薄膜的最优化实验条件 | 第46页 |
| 4.2.4 最优条件下制备的碳纳米片薄膜的结构表征 | 第46-48页 |
| 4.3 催化剂对碳纳米片的影响 | 第48-55页 |
| 4.3.1 缓冲层的制备 | 第48-49页 |
| 4.3.2 催化剂概述 | 第49页 |
| 4.3.3 催化剂的制备实验过程 | 第49页 |
| 4.3.4 在镀有缓冲层和催化剂的金刚石上生长碳纳米片 | 第49-53页 |
| 4.3.5 加有催化剂的金刚石/碳纳米片复合材料的结构表征 | 第53-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 不同衬底材料对碳纳米片薄膜的影响 | 第56-68页 |
| 5.1 硅衬底上生长碳纳米片 | 第56-59页 |
| 5.2 镀有缓冲层和催化剂的硅衬底上生长碳纳米片 | 第59-60页 |
| 5.3 在镀有金属Mo膜的陶瓷基片衬底上生长碳纳米片 | 第60-63页 |
| 5.4 单层碳纳米片、金刚石薄膜、无催化的金刚石/碳纳米片复合膜及有催化剂的金刚石/碳纳米片复合膜的场发射比较 | 第63-66页 |
| 5.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 第六章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
