紫外纳米线宽测量系统及线宽边缘的准确评估
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 论文研究背景、目的及意义 | 第13-17页 |
| 1.1.1 纳米技术 | 第13-15页 |
| 1.1.2 纳米测量技术的发展 | 第15-17页 |
| 1.2 国内外紫外光学线宽测量装置 | 第17-19页 |
| 1.3 论文的主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 紫外纳米线宽测量装置光学系统的设计 | 第21-36页 |
| 2.1 紫外光学线宽测量光路 | 第21页 |
| 2.2 科勒照明系统 | 第21-23页 |
| 2.3 显微镜光学成像系统 | 第23-26页 |
| 2.4 分光结构设计 | 第26-28页 |
| 2.5 线宽信号检测 | 第28-35页 |
| 2.5.1 光电倍增管的选型 | 第28-31页 |
| 2.5.2 电流电压转换电路的设计 | 第31-35页 |
| 2.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 大范围二维纳米位移台的性能评估及校准 | 第36-55页 |
| 3.1 纳米位移台简述 | 第36-38页 |
| 3.2 三轴激光干涉的位移测量系统 | 第38-43页 |
| 3.2.1 激光外差干涉测量原理 | 第38-39页 |
| 3.2.2 纳米台的性能测量光路 | 第39-40页 |
| 3.2.3 微位移测量系统的组成 | 第40-43页 |
| 3.3 位移台性能测试及校准 | 第43-54页 |
| 3.3.1 实验环境的简介 | 第43-44页 |
| 3.3.2 测量系统的稳定性 | 第44-45页 |
| 3.3.3 纳米位移台的正反一致性(校准前) | 第45-46页 |
| 3.3.4 纳米位移台的线性度(校正前) | 第46-48页 |
| 3.3.5 位移台的校准方法 | 第48-49页 |
| 3.3.6 纳米位移台的线性度(校准后) | 第49-51页 |
| 3.3.7 纳米位移台的正反一致性(校准后) | 第51-52页 |
| 3.3.8 纳米位移台的耦合位移及角摆(校准后) | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 线宽测量系统的上位机控制软件 | 第55-68页 |
| 4.1 系统硬件结构 | 第55-56页 |
| 4.2 控制软件中的编程技术 | 第56-58页 |
| 4.2.1 MFC架构技术 | 第56-57页 |
| 4.2.2 面向对象及模块化技术 | 第57页 |
| 4.2.3 多线程并发技术 | 第57-58页 |
| 4.3 系统软件设计 | 第58-66页 |
| 4.3.1 福哈贝电机控制 | 第59-61页 |
| 4.3.2 纳米位移台及物镜执行器的驱动控制 | 第61-62页 |
| 4.3.3 相机控制 | 第62-65页 |
| 4.3.4 PMT信号采集控制 | 第65-66页 |
| 4.3.5 MP-C152电机控制 | 第66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 线宽测量实验及测量结果的分析 | 第68-74页 |
| 5.1 线宽测量装置 | 第68页 |
| 5.2 2μm线宽栅格线宽测量实验 | 第68-70页 |
| 5.3 FDTD理论分析 | 第70-73页 |
| 5.4 实验结果处理 | 第73页 |
| 5.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 总结与展望 | 第74-76页 |
| 6.1 全文总结 | 第74-75页 |
| 6.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 发表的学术论文 | 第83页 |
