摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第12-24页 |
1.1 引言 | 第12-14页 |
1.2 纳米孔技术的原理和研究现状 | 第14-20页 |
1.2.1 纳米孔测序技术的原理 | 第14-15页 |
1.2.2 纳米孔测序技术的研究现状 | 第15-20页 |
1.3 纳米孔DNA测序面临的挑战 | 第20-22页 |
1.4 研究意义与内容 | 第22-24页 |
1.4.1 研究意义 | 第22页 |
1.4.2 研究内容 | 第22-24页 |
第2章 固态纳米孔的制备 | 第24-36页 |
2.1 离子束溅射刻蚀法 | 第24-25页 |
2.2 电子束溅射刻蚀法 | 第25-26页 |
2.3 化学刻蚀法 | 第26-28页 |
2.4 电介质击穿法 | 第28-35页 |
2.4.1 电介质击穿的原理模型 | 第28-30页 |
2.4.2 电介质击穿法制备固态纳米孔 | 第30-34页 |
2.4.3 固态纳米孔的可控三维结构 | 第34-35页 |
2.5 本章小结 | 第35-36页 |
第3章 基于锥形纳米孔对DNA分子易位研究 | 第36-45页 |
3.1 实验准备 | 第36-39页 |
3.1.1 材料与设备介绍 | 第36-38页 |
3.1.2 纳米孔制备 | 第38-39页 |
3.2 实验设计 | 第39-40页 |
3.3 实验结果与分析 | 第40-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-45页 |
第4章 氮化硅纳米孔中生物素化DNA分子易位的研究 | 第45-54页 |
4.1 生物素修饰DNA易位实验准备 | 第45-47页 |
4.1.1 生物素修饰DNA易位实验目的 | 第45-46页 |
4.1.2 生物素修饰DNA易位实验总体方案 | 第46页 |
4.1.3 生物素修饰DNA易位实验材料 | 第46页 |
4.1.4 生物素修饰DNA易位实验步骤 | 第46-47页 |
4.2 生物素修饰DNA对易位行为的影响 | 第47-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-54页 |
第5章 总结与展望 | 第54-57页 |
5.1 本文总结 | 第54-55页 |
5.2 本文展望 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第65页 |