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全印制无线射频识别标签制备技术的研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第9-16页
    1.1 RFID标签天线概述及论文研究的背景第9-11页
        1.1.1 RFID基本系统的组成第9-10页
        1.1.2 RFID标签的分类第10-11页
    1.2 RFID技术在国内外的应用状况第11-12页
    1.3 国内外RFID的研究状况第12页
    1.4 RFID面临的课题第12-14页
    1.5 本论文研究的主要内容第14页
    1.6 本论文的结构安排第14-16页
第二章 RFID工作原理及天线参数第16-19页
    2.1 基本工作原理第16页
    2.2 天线工作模式第16-17页
    2.3 天线的参数第17-19页
第三章 RFID标签天线的理论基础第19-25页
    3.1 最高传输速率的阻抗共轭匹配第19-22页
        3.1.1 共轭匹配理论第19-22页
    3.2 FRIIS方程及雷达距离方程与标签识别距离的关系第22-24页
        3.2.1 FRIIS方程第22-23页
        3.2.2 雷达距离方程第23-24页
    3.3 本章小结第24-25页
第四章 UHF标签天线的设计与仿真第25-41页
    4.1 RFID天线的性能要求第25页
    4.2 RFID设计时需要考虑的问题第25-26页
    4.3 RFID天线的设计现状第26-27页
    4.4 RFID天线的设计步骤第27页
    4.5 RFID标签天线设计要求:第27-32页
        4.5.1 天线的小型化第28-29页
        4.5.2 天线的阻抗匹配第29-32页
    4.6 标签天线的仿真过程第32-40页
        4.6.1 天线的初始尺寸第32-33页
        4.6.2 天线的仿真设计第33-40页
    4.7 本章小结第40-41页
第五章 RFID标签的制备技术第41-57页
    5.1 RFID天线的制造工艺第41-43页
        5.1.1 线圈绕制法第41页
        5.1.2 蚀刻法第41-42页
        5.1.3 印刷法第42-43页
    5.2 全印制电子技术第43-44页
    5.3 主要实验仪器及试剂第44-45页
    5.4 基板材料的选取第45-46页
    5.5 聚酰亚胺表面改性第46-49页
        5.5.1 聚酰亚胺基板用碱液处理第47页
        5.5.2 不同温度处理结果的对比第47-49页
    5.6 化学镀铜第49-56页
        5.6.1 化学镀铜的概述第49-50页
        5.6.2 以甲醛为还原剂的化学镀铜原理及溶液组成第50-51页
        5.6.3 基于化学沉积的全印制电子技术第51-52页
        5.6.4 镀铜时间对铜层的影响第52页
        5.6.5 铜层结合力测试第52-53页
        5.6.6 天线的制备第53-56页
    5.7 本章小结第56-57页
第六章 结论与展望第57-59页
    6.1 结论第57-58页
    6.2 展望第58-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-64页

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