600V VDMOS的设计与研究
| 内容提要 | 第1-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·功率半导体器件的发展历史与趋势 | 第8-9页 |
| ·VDMOS的技术特点 | 第9-10页 |
| ·VDMOS的应用以及发展趋势 | 第10-11页 |
| ·论文的创新点 | 第11页 |
| ·论文的结构 | 第11-12页 |
| 第二章 VDMOS的演化、工作原理和电学特性 | 第12-24页 |
| ·功率MOSFET结构的演化历程 | 第12-15页 |
| ·LDMOS | 第13页 |
| ·VVMOS | 第13-14页 |
| ·VDMOS | 第14-15页 |
| ·VDMOS的工作原理 | 第15-16页 |
| ·VDMOS的电学特性 | 第16-24页 |
| ·VDMOS的静态特性 | 第16-19页 |
| ·动态特性 | 第19-24页 |
| 第三章 VDMOS的制造工艺理论及模型 | 第24-40页 |
| ·光刻 | 第24-26页 |
| ·氧化 | 第26-29页 |
| ·扩散 | 第29-31页 |
| ·离子注入 | 第31-33页 |
| ·薄膜淀积 | 第33-36页 |
| ·刻蚀 | 第36-40页 |
| 第四章 VDMOS的设计 | 第40-45页 |
| ·元胞参数设计 | 第40-44页 |
| ·元胞形状设计 | 第40-41页 |
| ·元胞详细参数设计 | 第41-44页 |
| ·VDMOS工艺流程设计 | 第44-45页 |
| 第五章 VDMOS设计的计算机仿真验证 | 第45-52页 |
| ·工艺器件仿真软件简介 | 第45-46页 |
| ·Athena工艺仿真器 | 第46-49页 |
| ·Atlas器件仿真器 | 第49-52页 |
| 第六章 VDMOS的器件仿真和工艺仿真 | 第52-67页 |
| ·VDMOS的器件结构仿真验证 | 第52-57页 |
| ·VDMOS应用Atlas的仿真 | 第52-57页 |
| ·VDMOS的ATHENA工艺流程仿真验证 | 第57-67页 |
| 第七章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 摘要 | 第72-74页 |
| ABSTRACT | 第74-76页 |
