| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 保护基的选取条件 | 第8页 |
| 1.2 几种常见羟基保护基的介绍 | 第8-16页 |
| 1.2.1 醚类保护基 | 第8-11页 |
| 1.2.2 硅醚类保护基 | 第11-12页 |
| 1.2.3 缩酮缩醛类保护基 | 第12-13页 |
| 1.2.4 酯类保护基 | 第13-16页 |
| 第二章 保护基AZMB的脱除方法研究 | 第16-35页 |
| 2.1 保护基AZMB的研究背景 | 第16-24页 |
| 2.1.1 AZMBCl的合成方法 | 第16-17页 |
| 2.1.2 发展保护基AZMB的意义 | 第17-18页 |
| 2.1.3 保护基AZMB的保护方法 | 第18页 |
| 2.1.4 已有保护基AZMB的脱除方法 | 第18-19页 |
| 2.1.5 保护基AZMB的应用 | 第19-24页 |
| 2.2 实验条件的筛查 | 第24-28页 |
| 2.2.1 溶剂的影响 | 第25-26页 |
| 2.2.2 硫酸铜的影响 | 第26-27页 |
| 2.2.3 温度的影响 | 第27页 |
| 2.2.4 醋酸当量及其浓度的影响 | 第27-28页 |
| 2.3 底物拓展 | 第28-34页 |
| 2.3.1 无其他保护基非糖底物的AZMB脱除 | 第28-29页 |
| 2.3.2 AZMB与其他酰基正交脱除 | 第29-31页 |
| 2.3.3 AZMB与醚类保护基正交脱除 | 第31-33页 |
| 2.3.4 二糖上的AZMB和多个AZMB的脱除 | 第33-34页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第34-35页 |
| 第三章 2-脱氧-D-核糖的合成研究 | 第35-40页 |
| 3.1 脱氧核糖的背景介绍 | 第35页 |
| 3.2 脱氧核糖的合成新进展 | 第35-37页 |
| 3.3 合成2-脱氧-D-核糖的新路线 | 第37-38页 |
| 3.4 2-脱氧-L-核糖的合成探索 | 第38-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 实验部分 | 第40-71页 |
| 4.1 实验试剂与仪器 | 第40页 |
| 4.2 底物的合成 | 第40-59页 |
| 4.3 底物脱AZMB保护的过程 | 第59-68页 |
| 4.4 2-脱氧-D-核糖的合成 | 第68-71页 |
| 参考文献 | 第71-83页 |
| 附录：新化合物的~1HNMR、~(13)C NMR谱图 | 第83-108页 |
| 攻读硕士研究生期间学术成果 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109页 |