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自发射流抑制涡轮叶顶间隙泄漏研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-32页
    1.1 研究背景及意义第10-11页
    1.2 涡轮间隙泄漏流动研究进展第11-22页
        1.2.1 间隙泄漏损失模型研究第11-13页
        1.2.2 叶顶间隙流动研究进展第13-22页
    1.3 涡轮间隙流动控制研究进展第22-30页
        1.3.1 关于流动控制技术第22页
        1.3.2 叶尖凹槽(肋条)第22-25页
        1.3.3 叶尖小翼第25-26页
        1.3.4 叶顶或机匣喷气第26-29页
        1.3.5 介质阻挡放电等离子体控制第29-30页
    1.4 本文的主要研究内容第30-32页
第2章 单孔自发射流条件下叶栅流场特性研究第32-54页
    2.1 研究对象及数值方法第32-34页
        2.1.1 研究对象第32-33页
        2.1.2 数值方法第33-34页
    2.2 网格划分第34-36页
    2.3 边界条件及物性参数设定第36-40页
        2.3.1 混合平面法第37-38页
        2.3.2 滑移网格法第38-40页
    2.4 网格无关性检查及数值模型验证第40-42页
    2.5 间隙高度对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第42-48页
        2.5.1 间隙高度对自发射流条件下叶尖流场的影响第42-45页
        2.5.2 间隙高度对自发射流条件下叶尖泄漏流量的影响第45-46页
        2.5.3 间隙高度对自发射流条件下叶片载荷的影响第46-48页
    2.6 进口雷诺数对小叶顶间隙下自发射流抑制效果的影响第48-53页
        2.6.1 进口雷诺数叶尖自发射流条件下叶尖流场的影响第48-51页
        2.6.2 进口雷诺数对间隙泄漏量的影响第51-52页
        2.6.3 进口雷诺数对叶片载荷的影响第52页
        2.6.4 进口雷诺数对涡轮效率的影响第52-53页
    2.7 本章小结第53-54页
第3章 开孔参数对自发射流抑制效果影响的数值研究第54-74页
    3.1 孔径比对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第54-56页
    3.2 射流进气位置对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第56-57页
    3.3 射流出流方向对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第57-60页
    3.4 射流角对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第60-63页
    3.5 射流孔出流位置对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第63-64页
    3.6 内圆弧流道射流条件下泄漏流抑制效果分析第64-69页
    3.7 射流孔孔数对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第69-73页
    3.8 本章小结第73-74页
第4章 真实工况对自发射流抑制叶尖泄漏的影响第74-108页
    4.1 叶栅进口冲角对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第74-83页
        4.1.1 紧贴叶尖表面马赫数分布第74-75页
        4.1.2 叶尖表面静压系数分布第75-77页
        4.1.3 叶栅通道内总压损失系数分布第77-80页
        4.1.4 冲角对自发射流条件下间隙泄漏量的影响第80-82页
        4.1.5 冲角对自发射流条件下叶片载荷分布的影响第82-83页
    4.2 机匣相对运动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第83-95页
        4.2.1 端壁运动对自发射流条件下叶栅流场特性的影响第84-93页
        4.2.2 端壁运动对自发射流条件下叶尖泄漏量的影响第93页
        4.2.3 端壁运动对自发射流条件下叶片载荷的影响第93-95页
    4.3 叶片转动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第95-106页
        4.3.1 叶片转动对自发射流条件下叶栅流场特性的影响第96-101页
        4.3.2 叶片转动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响第101-104页
        4.3.3 叶片转动对自发射流条件下叶片载荷特性的影响第104-106页
    4.4 本章小结第106-108页
第5章 非定常尾迹对自发射流下间隙流动的影响第108-122页
    5.1 定常与非定常计算结果对比第108-111页
    5.2 各种流量的周期性非定常波动第111-115页
    5.3 叶尖射流孔附近区域马赫数分布第115-116页
    5.4 叶栅通道 S1 流面马赫数和熵增分布第116-118页
    5.5 转子通道 S2 流面熵增分布第118-119页
    5.6 动叶叶片载荷的非定常波动第119-121页
    5.7 本章小结第121-122页
第6章 自发射流下叶顶间隙流场测量实验研究第122-139页
    6.1 实验装置第122-127页
        6.1.1 低速平面叶栅风洞第122-124页
        6.1.2 2D-PIV 系统第124-125页
        6.1.3 PIV 系统调试第125-127页
    6.2 PIV 测量结果分析与讨论第127-138页
        6.2.1 测量平面 1 的 PIV 流场测量第128-134页
        6.2.2 测量平面 2 的 PIV 流场测量第134-138页
    6.3 本章小结第138-139页
结论第139-141页
参考文献第141-155页
攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果第155-157页
致谢第157-158页
作者简介第158页

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