摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-32页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 涡轮间隙泄漏流动研究进展 | 第11-22页 |
1.2.1 间隙泄漏损失模型研究 | 第11-13页 |
1.2.2 叶顶间隙流动研究进展 | 第13-22页 |
1.3 涡轮间隙流动控制研究进展 | 第22-30页 |
1.3.1 关于流动控制技术 | 第22页 |
1.3.2 叶尖凹槽(肋条) | 第22-25页 |
1.3.3 叶尖小翼 | 第25-26页 |
1.3.4 叶顶或机匣喷气 | 第26-29页 |
1.3.5 介质阻挡放电等离子体控制 | 第29-30页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第30-32页 |
第2章 单孔自发射流条件下叶栅流场特性研究 | 第32-54页 |
2.1 研究对象及数值方法 | 第32-34页 |
2.1.1 研究对象 | 第32-33页 |
2.1.2 数值方法 | 第33-34页 |
2.2 网格划分 | 第34-36页 |
2.3 边界条件及物性参数设定 | 第36-40页 |
2.3.1 混合平面法 | 第37-38页 |
2.3.2 滑移网格法 | 第38-40页 |
2.4 网格无关性检查及数值模型验证 | 第40-42页 |
2.5 间隙高度对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第42-48页 |
2.5.1 间隙高度对自发射流条件下叶尖流场的影响 | 第42-45页 |
2.5.2 间隙高度对自发射流条件下叶尖泄漏流量的影响 | 第45-46页 |
2.5.3 间隙高度对自发射流条件下叶片载荷的影响 | 第46-48页 |
2.6 进口雷诺数对小叶顶间隙下自发射流抑制效果的影响 | 第48-53页 |
2.6.1 进口雷诺数叶尖自发射流条件下叶尖流场的影响 | 第48-51页 |
2.6.2 进口雷诺数对间隙泄漏量的影响 | 第51-52页 |
2.6.3 进口雷诺数对叶片载荷的影响 | 第52页 |
2.6.4 进口雷诺数对涡轮效率的影响 | 第52-53页 |
2.7 本章小结 | 第53-54页 |
第3章 开孔参数对自发射流抑制效果影响的数值研究 | 第54-74页 |
3.1 孔径比对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第54-56页 |
3.2 射流进气位置对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第56-57页 |
3.3 射流出流方向对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第57-60页 |
3.4 射流角对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第60-63页 |
3.5 射流孔出流位置对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第63-64页 |
3.6 内圆弧流道射流条件下泄漏流抑制效果分析 | 第64-69页 |
3.7 射流孔孔数对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第69-73页 |
3.8 本章小结 | 第73-74页 |
第4章 真实工况对自发射流抑制叶尖泄漏的影响 | 第74-108页 |
4.1 叶栅进口冲角对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第74-83页 |
4.1.1 紧贴叶尖表面马赫数分布 | 第74-75页 |
4.1.2 叶尖表面静压系数分布 | 第75-77页 |
4.1.3 叶栅通道内总压损失系数分布 | 第77-80页 |
4.1.4 冲角对自发射流条件下间隙泄漏量的影响 | 第80-82页 |
4.1.5 冲角对自发射流条件下叶片载荷分布的影响 | 第82-83页 |
4.2 机匣相对运动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第83-95页 |
4.2.1 端壁运动对自发射流条件下叶栅流场特性的影响 | 第84-93页 |
4.2.2 端壁运动对自发射流条件下叶尖泄漏量的影响 | 第93页 |
4.2.3 端壁运动对自发射流条件下叶片载荷的影响 | 第93-95页 |
4.3 叶片转动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第95-106页 |
4.3.1 叶片转动对自发射流条件下叶栅流场特性的影响 | 第96-101页 |
4.3.2 叶片转动对自发射流抑制叶尖泄漏效果的影响 | 第101-104页 |
4.3.3 叶片转动对自发射流条件下叶片载荷特性的影响 | 第104-106页 |
4.4 本章小结 | 第106-108页 |
第5章 非定常尾迹对自发射流下间隙流动的影响 | 第108-122页 |
5.1 定常与非定常计算结果对比 | 第108-111页 |
5.2 各种流量的周期性非定常波动 | 第111-115页 |
5.3 叶尖射流孔附近区域马赫数分布 | 第115-116页 |
5.4 叶栅通道 S1 流面马赫数和熵增分布 | 第116-118页 |
5.5 转子通道 S2 流面熵增分布 | 第118-119页 |
5.6 动叶叶片载荷的非定常波动 | 第119-121页 |
5.7 本章小结 | 第121-122页 |
第6章 自发射流下叶顶间隙流场测量实验研究 | 第122-139页 |
6.1 实验装置 | 第122-127页 |
6.1.1 低速平面叶栅风洞 | 第122-124页 |
6.1.2 2D-PIV 系统 | 第124-125页 |
6.1.3 PIV 系统调试 | 第125-127页 |
6.2 PIV 测量结果分析与讨论 | 第127-138页 |
6.2.1 测量平面 1 的 PIV 流场测量 | 第128-134页 |
6.2.2 测量平面 2 的 PIV 流场测量 | 第134-138页 |
6.3 本章小结 | 第138-139页 |
结论 | 第139-141页 |
参考文献 | 第141-155页 |
攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第155-157页 |
致谢 | 第157-158页 |
作者简介 | 第158页 |