| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.1.1 多晶硅行业发展现状 | 第8页 |
| 1.1.2 多晶硅行业存在问题 | 第8-9页 |
| 1.2 多晶硅主要生产工艺介绍 | 第9-12页 |
| 1.2.1 改良西门子法 | 第9-10页 |
| 1.2.2 硅烷法 | 第10-12页 |
| 1.3 国内外氯硅烷提纯精制方法及工艺 | 第12-20页 |
| 1.3.1 精馏法 | 第13-15页 |
| 1.3.2 反应法 | 第15-18页 |
| 1.3.3 吸附法 | 第18-20页 |
| 1.4 化工过程流程的模拟 | 第20页 |
| 1.4.1 化工流程模拟软件 Aspen Plus 介绍 | 第20页 |
| 1.4.2 化工流程模拟软件 Pro/II 介绍 | 第20页 |
| 1.5 节能型精馏技术 | 第20-24页 |
| 1.5.1 热泵精馏 | 第21-22页 |
| 1.5.2 隔板精馏 | 第22-23页 |
| 1.5.3 差压热耦合精馏 | 第23-24页 |
| 1.6 本文的研究目的和内容 | 第24-25页 |
| 第二章 热泵精馏在三氯氢硅提纯过程中的模拟 | 第25-42页 |
| 2.1 单塔三氯氢硅热泵精馏工艺的建立 | 第25-30页 |
| 2.1.1 热泵精馏的可行性和必要性 | 第25页 |
| 2.1.2 热力学模型的选择 | 第25-26页 |
| 2.1.3 精馏模块的选择 | 第26-27页 |
| 2.1.4 进料组成 | 第27页 |
| 2.1.5 单塔热泵精馏模型的模拟 | 第27-30页 |
| 2.2 双塔三氯氢硅热泵精馏工艺的模拟 | 第30-36页 |
| 2.2.1 传统两塔串联模型 | 第30-31页 |
| 2.2.2 塔顶气体直接压缩式模型 | 第31页 |
| 2.2.3 塔釜液体闪蒸再沸式模型 | 第31-32页 |
| 2.2.4 工艺模型的数据输入 | 第32-33页 |
| 2.2.5 工艺模拟结果 | 第33-34页 |
| 2.2.6 热泵精馏工艺的经济性评价 | 第34-36页 |
| 2.3 塔釜液体闪蒸再沸式热泵精馏工艺优化 | 第36-41页 |
| 2.3.1 进料位置 | 第36-37页 |
| 2.3.2 回流比 | 第37-39页 |
| 2.3.3 节流阀出口压力 | 第39-40页 |
| 2.3.4 优化前后节能对比 | 第40-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 隔板及隔板差压热耦合精馏工艺 | 第42-63页 |
| 3.1 单塔隔板精馏工艺 | 第42-55页 |
| 3.1.1 工艺流程 | 第42-43页 |
| 3.1.2 流程模拟 | 第43-45页 |
| 3.1.3 流程优化 | 第45-51页 |
| 3.1.4 与常规分离方法比较 | 第51-55页 |
| 3.2 流量可调式隔板精馏再分布器 | 第55-57页 |
| 3.2.1 国内外现状 | 第55-56页 |
| 3.2.2 一种新型隔板收集再分布器的建立 | 第56-57页 |
| 3.2.3 特点和优势 | 第57页 |
| 3.3 三塔隔板精馏串联工艺 | 第57-60页 |
| 3.3.1 三塔隔板精馏工艺的建立 | 第57-58页 |
| 3.3.2 工艺模型的数据输入 | 第58-59页 |
| 3.3.3 模拟结果 | 第59-60页 |
| 3.4 隔板差压热耦合精馏工艺 | 第60-62页 |
| 3.4.1 热负荷匹配 | 第60页 |
| 3.4.2 温度匹配 | 第60-61页 |
| 3.4.3 三塔隔板差压热耦合工艺建立 | 第61页 |
| 3.4.4 节能分析 | 第61-62页 |
| 3.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 第四章 吸附法除三氯氢硅中硼杂质的研究 | 第63-73页 |
| 4.1 实验准备部分 | 第63-67页 |
| 4.1.1 吸附剂的选择 | 第63-64页 |
| 4.1.2 实验部分 | 第64-67页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第67-72页 |
| 4.2.1 三氯氢硅样品中硼杂质测定 | 第67页 |
| 4.2.2 树脂的筛选实验结果 | 第67-69页 |
| 4.2.3 吸附时间的影响 | 第69-70页 |
| 4.2.4 树脂干燥温度的影响 | 第70-71页 |
| 4.2.5 吸附温度的影响 | 第71-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |