| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 纳米材料概述 | 第9-11页 |
| 1.1.1 纳米材料 | 第9页 |
| 1.1.2 纳米材料的分类 | 第9-10页 |
| 1.1.3 纳米材料的五大效应 | 第10-11页 |
| 1.2 纳米材料的发展和应用 | 第11-12页 |
| 1.3 红外光谱技术的研究 | 第12-14页 |
| 1.3.1 红外光谱法的简介 | 第12页 |
| 1.3.2 红外光谱仪的分类 | 第12-14页 |
| 1.4 本课题的研究内容和意义 | 第14-15页 |
| 2 实验仪器和表征手段 | 第15-20页 |
| 2.1 实验概述 | 第15-16页 |
| 2.2 实验试剂 | 第16页 |
| 2.3 实验主要设备和表征方法 | 第16-20页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)[10-11] | 第16-17页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第17-18页 |
| 2.3.3 紫外---可见分光光度计（UV-vis） | 第18-20页 |
| 3 多孔阳极氧化铝模板制备 | 第20-32页 |
| 3.1 多孔阳极氧化铝薄膜结构模型的发展 | 第20-21页 |
| 3.2 多孔阳极氧化铝的形成机理 | 第21-23页 |
| 3.3 氧化铝模板的传统制备工艺 | 第23-26页 |
| 3.3.1 去污处理 | 第24页 |
| 3.3.2 退火处理 | 第24页 |
| 3.3.3 碱洗处理 | 第24页 |
| 3.3.4 抛光处理 | 第24-25页 |
| 3.3.5 除去氧化膜 | 第25页 |
| 3.3.6 第一次阳极氧化 | 第25页 |
| 3.3.7 除氧化膜 | 第25页 |
| 3.3.8 第二次阳极氧化 | 第25页 |
| 3.3.9 除铝基模板 | 第25-26页 |
| 3.3.10 除去阻挡层 | 第26页 |
| 3.3.11 扩孔 | 第26页 |
| 3.3.12 后续处理 | 第26页 |
| 3.4 实验室制备多孔阳极模板 | 第26-28页 |
| 3.5 超薄氧化铝模板制备 | 第28-31页 |
| 3.5.1 超薄阳极氧化铝模板的制备 | 第29-30页 |
| 3.5.2 实验室制备超薄阳极氧化铝模板 | 第30-31页 |
| 3.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 CVD 法辅助阳极氧化铝模板制备 Pt/CNTs 材料 | 第32-41页 |
| 4.1 引言 | 第32页 |
| 4.2 CVD 法辅助阳极氧化铝模板制备 CNTs | 第32-35页 |
| 4.3 Pt/CNTs 新型复合纳米材料的制备 | 第35-39页 |
| 4.3.1 Pt/CNTs 新型复合纳米材料的制备方法 | 第35页 |
| 4.3.2 Pt/CNTs 新型复合纳米材料的表征方法 | 第35-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 5 金属/AAO 纳米有序阵列复合结构的光学性能研究 | 第41-53页 |
| 5.1 引言 | 第41页 |
| 5.2 实验仪器及原理 | 第41-42页 |
| 5.3 金属纳米线的合成方法[30-33] | 第42-43页 |
| 5.4 AAO 辅助电化学沉积法制备金属纳米线 | 第43-51页 |
| 5.4.1 电化学沉积 Ag 纳米线及光学性能的测试 | 第43-47页 |
| 5.4.2 电化学沉积 Cu 纳米线以及光学性能分测试 | 第47-49页 |
| 5.4.3 电化学沉积 Ni 纳米线及光学性能的测试 | 第49-51页 |
| 5.5 小结 | 第51-53页 |
| 6 结论与展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 个人简历及硕士期间的研究成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
