| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 透明导电氧化物薄膜概述 | 第9-16页 |
| 1.1.1 透明导电氧化物薄膜的基本性质及形成机理 | 第9-10页 |
| 1.1.2 透明导电氧化物薄膜的种类及研究现状 | 第10-12页 |
| 1.1.3 氧化锌基透明导电薄膜概述 | 第12-16页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.2.1 物理方法 | 第16-17页 |
| 1.2.2 化学方法 | 第17-18页 |
| 1.3 透明导电氧化物薄膜的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.1 薄膜太阳能电池方面的应用 | 第18-19页 |
| 1.3.2 显示器件方面的应用 | 第19页 |
| 1.3.3 触摸屏方面的应用 | 第19-20页 |
| 1.3.4 其他方面的应用 | 第20页 |
| 1.4 本课题研究的主要内容与意义 | 第20-23页 |
| 1.4.1 课题研究的主要内容 | 第20-21页 |
| 1.4.2 课题研究的意义 | 第21-23页 |
| 第二章 实验方法与设备 | 第23-30页 |
| 2.1 磁控溅射法 | 第23-25页 |
| 2.1.1 磁控溅射法的原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 磁控溅射仪 | 第24-25页 |
| 2.2 测试仪器及测试方法简介 | 第25-30页 |
| 2.2.1 X 射线衍射仪 | 第25-26页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第26-27页 |
| 2.2.3 椭圆偏振仪 | 第27-28页 |
| 2.2.4 霍尔效应测试系统 | 第28-29页 |
| 2.2.5 台阶仪 | 第29-30页 |
| 第三章 实验过程及参数调试 | 第30-34页 |
| 3.1 实验过程 | 第30页 |
| 3.2 靶位调试 | 第30-34页 |
| 第四章 MZO 薄膜性能研究 | 第34-50页 |
| 4.1 ZnO 靶溅射功率对薄膜性质的影响 | 第34-41页 |
| 4.1.1 ZnO 靶溅射功率对薄膜结构性质的影响 | 第35-38页 |
| 4.1.2 ZnO 靶溅射功率对薄膜电学性质的影响 | 第38-39页 |
| 4.1.3 ZnO 靶溅射功率对薄膜光学性质的影响 | 第39-41页 |
| 4.2 衬底温度对薄膜性质的影响 | 第41-46页 |
| 4.2.1 衬底温度对薄膜结构性质的影响 | 第41-44页 |
| 4.2.2 衬底温度对薄膜电学性质的影响 | 第44页 |
| 4.2.3 衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第44-46页 |
| 4.3 溅射时间对薄膜性质的影响 | 第46-49页 |
| 4.3.1 溅射时间对薄膜结构性质的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.2 溅射时间对薄膜电学性质的影响 | 第48页 |
| 4.3.3 溅射时间对薄膜光学性质的影响 | 第48-49页 |
| 4.4 小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
