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硼掺杂金刚石膜电极的制备及电场数值模拟

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 金刚石的结构、性质与应用第9-11页
    1.2 硼掺杂金刚石膜的性质及应用第11-13页
    1.3 硼掺杂 CVD 金刚石膜制备的实验方法第13-16页
    1.4 琼脂糖凝胶电泳的基本原理及主要影响因素第16-18页
    1.5 有限元分析的基本原理及方法第18-21页
    1.6 论文的选题及主要研究方向第21-23页
第二章 硼掺杂金刚石膜的制备及性质研究第23-31页
    2.1 硼掺杂金刚石膜的制备第23-24页
    2.2 金刚石膜样品扫描电镜(SEM)、Raman 光谱和 X 射线衍射(XRD)表征第24-27页
    2.3 硼掺杂金刚石膜电极的电化学性质第27-30页
    2.4 本章小结第30-31页
第三章 不同电极在电泳槽内所产生电场分布的数值模拟第31-40页
    3.1 电场模拟的理论基础第31-33页
    3.2 电泳槽模型的建立及数值模拟的准备工作第33-34页
    3.3 电泳槽内电场分布的数值模拟结果与分析第34-39页
    3.4 本章小结第39-40页
第四章 硼掺杂金刚石膜电极的琼脂糖凝胶电泳实验第40-44页
    4.1 琼脂糖凝胶电泳实验的过程第40-41页
    4.2 琼脂糖凝胶电泳实验的结果及分析第41-42页
    4.3 本章小结第42-44页
第五章 全文总结第44-45页
参考文献第45-51页
致谢第51页

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