| 摘要 | 第6-8页 |
| 英文摘要 | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第17-22页 |
| 1.1 SnO_2薄膜概述 | 第17-18页 |
| 1.2 SnO_2薄膜的研究现状 | 第18-21页 |
| 1.3 研究的意义与主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 SnO_2薄膜的制备和表征方法 | 第22-27页 |
| 2.1 SnO_2薄膜的制备方法 | 第22页 |
| 2.2 SnO_2薄膜的制备条件 | 第22-25页 |
| 2.3 表征方法 | 第25-27页 |
| 第三章 SnO_2薄膜的结构及其特性 | 第27-42页 |
| 3.1 不同实验参数下制备的SnO_2薄膜及其特性 | 第27-36页 |
| 3.1.1 不同溅射功率下沉积的SnO_2薄膜 | 第27-29页 |
| 3.1.2 不同氩氧比率下沉积的SnO_2薄膜 | 第29-32页 |
| 3.1.3 不同沉积压强下沉积的SnO_2薄膜 | 第32-34页 |
| 3.1.4 不同沉积时间下沉积的SnO_2薄膜 | 第34-36页 |
| 3.2 SnO_2薄膜的性质 | 第36-42页 |
| 3.2.1 SnO_2薄膜的结构及其表面形貌 | 第36-37页 |
| 3.2.2 SnO_2薄膜的光学特性 | 第37-39页 |
| 3.2.3 SnO_2薄膜的光致发光特性 | 第39-42页 |
| 第四章 金属掺杂M-SnO_2薄膜(M=Al,Zn)的结构及其特性 | 第42-64页 |
| 4.1 Al掺杂SnO_2薄膜的结构及其特性 | 第42-52页 |
| 4.1.1 Al-SnO_2薄膜的XRD分析 | 第42-45页 |
| 4.1.2 Al-SnO_2薄膜的电学特性 | 第45-46页 |
| 4.1.3 Al-SnO_2薄膜的表面形貌分析 | 第46-48页 |
| 4.1.4 Al-SnO_2薄膜的光学特性 | 第48-51页 |
| 4.1.5 Al-SnO_2薄膜的光致发光特性 | 第51-52页 |
| 4.2 Zn掺杂SnO_2薄膜的结构及其特性 | 第52-64页 |
| 4.2.1 Zn-SnO_2薄膜的结构特性 | 第52-55页 |
| 4.2.2 Zn-SnO_2薄膜电学特性 | 第55-57页 |
| 4.2.3 Zn-SnO_2薄膜的表面形貌分析 | 第57-58页 |
| 4.2.4 Zn-SnO_2薄膜的光学特性 | 第58-61页 |
| 4.2.5 Zn-SnO_2薄膜的光致发光特性 | 第61-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第71-72页 |