| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 前言 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-20页 |
| 2.1 沸腾传热及其强化 | 第12-15页 |
| 2.1.1 沸腾传热的发展和分类 | 第12页 |
| 2.1.2 池沸腾传热强化机理 | 第12-13页 |
| 2.1.3 表面工程技术强化传热 | 第13-15页 |
| 2.2 污垢基础理论 | 第15-19页 |
| 2.2.1 换热壁面污垢类型 | 第16页 |
| 2.2.2 壁面污垢形成机理 | 第16-17页 |
| 2.2.3 表面工程技术及其在防除垢应用的研究进展 | 第17-19页 |
| 2.3 表面技术在强化传热及防垢应用中存在的问题 | 第19页 |
| 2.4 研究课题的提出 | 第19-20页 |
| 第三章 池沸腾实验装置及流程 | 第20-34页 |
| 3.1 实验装置 | 第20-22页 |
| 3.2 实验流程 | 第22-23页 |
| 3.2.1 实验准备 | 第22-23页 |
| 3.2.2 沸腾实验 | 第23页 |
| 3.3 实验数据采集和处理 | 第23-26页 |
| 3.3.1 沸腾过程温度 | 第24-25页 |
| 3.3.2 传热热通量 | 第25-26页 |
| 3.3.3 沸腾传热系数和污垢热阻 | 第26页 |
| 3.4 实验误差分析 | 第26页 |
| 3.5 涂层的表征方法 | 第26-31页 |
| 3.5.1 表面接触角的测量和表面能的计算 | 第27-28页 |
| 3.5.2 表面粗糙度测量 | 第28-29页 |
| 3.5.3 涂层厚度测量 | 第29-30页 |
| 3.5.4 场发射扫描电镜（FE-SEM） | 第30-31页 |
| 3.5.5 X射线能谱（EDS） | 第31页 |
| 3.5.6 俄歇电子能谱分析（AES） | 第31页 |
| 3.6 实验仪器及药品 | 第31-32页 |
| 3.7 本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 化学刻蚀制备疏水涂层研究 | 第34-44页 |
| 4.1 不锈钢基底的表面预处理 | 第34-36页 |
| 4.1.1 打磨和抛光 | 第34页 |
| 4.1.2 基底表面的清洗 | 第34-35页 |
| 4.1.3 不锈钢基底化学刻蚀 | 第35-36页 |
| 4.2 液相沉积法制备TiO_2涂层 | 第36-39页 |
| 4.2.1 液相沉积法简介 | 第36-37页 |
| 4.2.2 TiO_2成膜机理 | 第37-38页 |
| 4.2.3 TiO_2涂层制备过程 | 第38页 |
| 4.2.4 TiO_2-FPS疏水涂层制备 | 第38-39页 |
| 4.3 疏水涂层制备结果与讨论 | 第39-44页 |
| 4.3.1 刻蚀液浓度对表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 4.3.2 超声条件对表面微细结构的影响 | 第41-42页 |
| 4.3.3 刻蚀时间对表面润湿性的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 化学刻蚀制备疏水涂层的池沸腾传热和CaSO_4污垢研究 | 第44-65页 |
| 5.1 引言 | 第44页 |
| 5.2 CaSO_4污垢溶液的配制 | 第44-46页 |
| 5.3 化学刻蚀疏水涂层的表征 | 第46-53页 |
| 5.3.1 涂层表面粗糙度及涂层厚度测量 | 第46-47页 |
| 5.3.2 涂层接触角测量 | 第47-49页 |
| 5.3.3 表面能计算 | 第49页 |
| 5.3.4 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第49-51页 |
| 5.3.5 X射线电子能谱（EDS） | 第51-52页 |
| 5.3.6 俄歇电子能谱（AES） | 第52-53页 |
| 5.4 涂层的传热和防垢实验研究 | 第53-64页 |
| 5.4.1 装置的重复性实验 | 第53-54页 |
| 5.4.2 沸腾传热壁面温差 | 第54-55页 |
| 5.4.3 沸腾传热系数 | 第55-56页 |
| 5.4.4 表面结构对沸腾传热性能的影响 | 第56-59页 |
| 5.4.5 涂层的CaSO_4污垢实验研究 | 第59-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 结论与建议 | 第65-67页 |
| 6.1 结论 | 第65页 |
| 6.2 建议 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |