| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 插图索引 | 第11-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-36页 |
| 1.1 课题研究的背景 | 第13-19页 |
| 1.1.1 汞的环境化学 | 第13-14页 |
| 1.1.2 汞的排放与危害 | 第14-19页 |
| 1.1.3 汞的排放标准 | 第19页 |
| 1.2 国内外研究现状及发展趋势 | 第19-27页 |
| 1.2.1 常规烟气净化装置对汞的脱除 | 第19-24页 |
| 1.2.2 国内外脱汞技术研究进展 | 第24-27页 |
| 1.3 活性炭质吸附剂控制 Hg 排放的研究进展 | 第27-32页 |
| 1.3.1 活性炭脱汞 | 第28-30页 |
| 1.3.2 活性碳纤维脱汞 | 第30-31页 |
| 1.3.3 活性焦脱汞 | 第31-32页 |
| 1.4 催化剂组成及常用制备方法 | 第32-34页 |
| 1.4.1 催化剂的组成 | 第32-33页 |
| 1.4.2 催化剂常用制备方法 | 第33-34页 |
| 1.5 CeCl_3/ACF 去除模拟烟气中汞的实验方案的提出 | 第34-35页 |
| 1.6 课题研究的内容及其意义 | 第35-36页 |
| 1.6.1 研究内容 | 第35页 |
| 1.6.2 研究意义 | 第35-36页 |
| 第2章 去除剂的制备 | 第36-38页 |
| 2.1 概述 | 第36页 |
| 2.2 去除剂的制备方法 | 第36-38页 |
| 第3章 CeCl_3/ACF 去除单质汞的实验研究 | 第38-47页 |
| 3.1 实验装置 | 第38-39页 |
| 3.2 实验方法 | 第39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-46页 |
| 3.3.1 CeCl_3负载量对去除剂脱除单质汞性能的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.2 反应温度对去除剂脱除单质汞性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.3 NO 对去除剂脱除单质汞性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.4 SO_2对去除剂脱除单质汞性能的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.5 H_2O 对去除剂脱除单质汞性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.6 CeCl_3/ACF 去除剂脱除单质汞机理分析 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 CeCl_3/ACF 去除氯化汞的实验研究 | 第47-52页 |
| 4.1 概述 | 第47页 |
| 4.2 实验装置 | 第47-48页 |
| 4.3 实验方法 | 第48页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第48-51页 |
| 4.4.1 去除剂脱除 HgCl_2性能实验 | 第48-49页 |
| 4.4.2 NO 对去除剂脱除 HgCl_2性能的影响 | 第49-50页 |
| 4.4.3 SO_2对去除剂脱除 HgCl_2性能的影响 | 第50页 |
| 4.4.4 CeCl_3/ACF 去除剂脱除 HgCl_2机理分析 | 第50-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 去除剂的表征及表征结果的分析 | 第52-60页 |
| 5.1 基于吸附理论的催化剂常用表征方法 | 第52-54页 |
| 5.1.1 比表面积的测定 | 第52-53页 |
| 5.1.2 孔结构的测定 | 第53-54页 |
| 5.2 基于光谱和能谱的催化剂常用表征方法 | 第54-57页 |
| 5.2.1 X 射线衍射 | 第54-55页 |
| 5.2.2 红外光谱 | 第55页 |
| 5.2.3 扫描电子显微镜 | 第55-56页 |
| 5.2.4 X 射线光电子能谱 | 第56-57页 |
| 5.3 去除剂的表征 | 第57页 |
| 5.4 去除剂的表征结果 | 第57-59页 |
| 5.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论与建议 | 第60-64页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 实验创新 | 第62页 |
| 建议 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第72页 |
