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原子干涉仪中大通量冷原子源制备技术的研究

致谢第4-6页
摘要第6-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-19页
    1.1 冷原子的研究意义及研究现状第11-14页
        1.1.1 激光冷却原子发展进程第11-13页
        1.1.2 磁光阱发展进程第13-14页
        1.1.3 冷原子的应用第14页
    1.2 大通量冷原子源制备技术的发展背景第14-17页
    1.3 本文的研究内容第17-19页
第二章 原子冷却与囚禁的基本理论第19-31页
    2.1 Rb原子的相关参数第19-20页
    2.2 激光冷却原理第20-24页
        2.2.1 多普勒冷却第21-23页
        2.2.2 偏振梯度冷却第23-24页
    2.3 磁光阱的工作原理第24-29页
        2.3.1 三维磁光阱(3D-MOT)第24-27页
        2.3.2 二维磁光阱(2D-MOT)第27-29页
    2.4 本章小结第29-31页
第三章 大通量冷原子源制备的实验设计第31-55页
    3.1 真空系统第31-36页
        3.1.1 2D-MOT结构设计第31-35页
        3.1.2 真空设备第35-36页
    3.2 磁场系统第36-49页
        3.2.1 2D-MOT梯度磁场线圈第37-42页
        3.2.2 3D-MOT梯度磁场线圈第42-43页
        3.2.3 紧凑型双回路原子干涉仪三维磁场系统的性能分析第43-49页
    3.3 激光系统第49-53页
    3.4 本章小结第53-55页
第四章 大通量冷原子源制备的实验结果第55-65页
    4.1 半导体激光器的稳频与移频第55-60页
        4.1.1 激光稳频原理第55-56页
        4.1.2 饱和吸收谱稳频第56-59页
        4.1.3 激光移频与声光调制第59-60页
    4.2 冷原子源的制备第60-63页
        4.2.1 MOT磁场线圈所通电流第60页
        4.2.2 2D-MOT冷却与囚禁原子第60-62页
        4.2.3 冷原子参数的探测原理第62-63页
    4.3 本章小结第63-65页
第五章 总结与展望第65-67页
    5.1 总结第65-66页
    5.2 展望第66-67页
参考文献第67-71页
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果第71页

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