| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 引言 | 第11-22页 |
| 1.1 UV固化材料的概念 | 第11页 |
| 1.2 UV固化光敏树脂配方的组成 | 第11-20页 |
| 1.2.1 光引发剂 | 第11-15页 |
| 1.2.2 预聚物（Prepolymer） | 第15-18页 |
| 1.2.3 活性称释剂（Reactive diluent） | 第18-20页 |
| 1.3 UV固化材料的应用 | 第20页 |
| 1.4 课题研究意义、主要内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第20-21页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 新型阳离子光固化活性单体DIOX的合成及其固化机理的研究 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-24页 |
| 2.2.1 实验原料和试剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 实验设备与仪器 | 第23页 |
| 2.2.3 合成步骤 | 第23-24页 |
| 2.3 测量与表征 | 第24页 |
| 2.3.1 产率的计算 | 第24页 |
| 2.3.2 傅立叶红外光谱(FT-IR)表征 | 第24页 |
| 2.3.3 黏度的测定 | 第24页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第24-33页 |
| 2.4.1 产物傅立叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第24-25页 |
| 2.4.2 产物核磁共振氢谱(~1H-NMR)分析 | 第25-26页 |
| 2.4.3 投料比对反应的影响 | 第26-27页 |
| 2.4.4 反应时间对反应的影响 | 第27页 |
| 2.4.5 不同碱对反应的影响 | 第27-28页 |
| 2.4.6 碱的用量对反应的影响 | 第28-29页 |
| 2.4.7 相转移催化剂的量对反应的影响 | 第29页 |
| 2.4.8 不同温度对反应的影响 | 第29-31页 |
| 2.4.9 DIOX固化机理 | 第31-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 DIOX作为活性单体在阳离子光敏树脂中的应用研究 | 第34-47页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验部分 | 第34-35页 |
| 3.2.1 实验原料和试剂 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实验设备与仪器 | 第35页 |
| 3.3 实验测量与表征 | 第35-37页 |
| 3.3.1 光敏树脂黏度的测定 | 第35页 |
| 3.3.2 固化材料柔韧性的测定 | 第35页 |
| 3.3.3 固化材料冲击强度的测定 | 第35-36页 |
| 3.3.4 固化材料的摆杆硬度测定 | 第36页 |
| 3.3.5 固化材料凝胶率的测定 | 第36页 |
| 3.3.6 固化材料耐水性的测定 | 第36页 |
| 3.3.7 固化材料耐酸、耐碱、耐盐性能的测定 | 第36-37页 |
| 3.3.8 固化材料拉伸性能的测定 | 第37页 |
| 3.3.9 完全固化的测定 | 第37页 |
| 3.3.10 固化膜附着力的测定 | 第37页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第37-46页 |
| 3.4.1 DIOX的稀释性能 | 第37-38页 |
| 3.4.2 DIOX含量对光固化材料性能的影响 | 第38-41页 |
| 3.4.3 光引发剂的含量变化对UV固化材料的影响 | 第41-43页 |
| 3.4.4 光照强度的强弱对固化膜交联度的影响 | 第43-44页 |
| 3.4.5 DIOX-E51光固化体系固化机理分析 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 KH-560对纳米SiO_2表面接枝改性的研究 | 第47-54页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验部分 | 第47-48页 |
| 4.2.1 实验原料与试剂 | 第47-48页 |
| 4.2.2 实验设备与仪器 | 第48页 |
| 4.3 测量与表征 | 第48-49页 |
| 4.3.1 亲油化度的测定 | 第48页 |
| 4.3.2 红外光谱图的测定 | 第48页 |
| 4.3.3 粒子表面形貌的测定 | 第48-49页 |
| 4.4 改性纳米二氧化硅制备过程 | 第49页 |
| 4.5 结果与讨论 | 第49-53页 |
| 4.5.1 KH-560的用量对Nano-SiO_2-KH560亲油化度的影响 | 第49-50页 |
| 4.5.2 反应温度对Nano-SiO_2-KH560亲油化度的影响 | 第50页 |
| 4.5.3 反应时间对Nano-SiO_2-KH560亲油化度的影响 | 第50-51页 |
| 4.5.4 红外光谱及改性机理分析 | 第51-52页 |
| 4.5.5 粒子形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 Nano-SiO_2-KH560杂化UV材料的制备与性能研究 | 第54-63页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 5.2.1 实验原料和试剂 | 第54-55页 |
| 5.2.2 实验设备与仪器 | 第55页 |
| 5.3 杂化膜的制备 | 第55页 |
| 5.4 结果与讨论 | 第55-61页 |
| 5.4.1 Nano-SiO_2-KH560对黏度的影响 | 第55-56页 |
| 5.4.2 Nano-SiO_2-KH560在DIOX中的分散性 | 第56-57页 |
| 5.4.3 Nano-SiO_2-KH560对耐化学性能的影响 | 第57-58页 |
| 5.4.4 Nano-SiO_2-KH560对光固化时间的影响 | 第58页 |
| 5.4.5 Nano-SiO_2-KH560对冲击强度的影响 | 第58-59页 |
| 5.4.6 Nano-SiO_2-KH560对拉伸性能的影响 | 第59-61页 |
| 5.4.7 杂化膜断口形貌分析 | 第61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第69页 |
