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纳米缺陷的几个反平面问题研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-20页
    1.1 研究背景及意义第11-12页
    1.2 表/界面效应第12-14页
        1.2.1 表/界面效应的研究现状第12-13页
        1.2.2 表/界面效应的本构方程第13-14页
    1.3 裂纹问题的研究现状第14-18页
        1.3.1 复合材料中裂纹问题的研究现状第14-16页
        1.3.2 压电材料中裂纹问题的研究现状第16-17页
        1.3.3 准晶材料中裂纹问题的研究现状第17-18页
    1.4 本文的主要研究内容第18-19页
    1.5 本文的主要创新点第19-20页
第2章 位错与直线纳米裂纹干涉的反平面问题第20-29页
    2.1 引言第20页
    2.2 问题的描述与基本公式第20-22页
    2.3 问题的解答第22-23页
    2.4 应力场和位错力第23-24页
    2.5 数值分析与讨论第24-28页
        2.5.1 表面效应对应力场的影响第25-26页
        2.5.2 表面效应对位错力的影响第26-28页
    2.6 本章小结第28-29页
第3章 压电位错与直线纳米裂纹干涉的反平面问题第29-42页
    3.1 引言第29页
    3.2 压电材料中反平面问题的基本方程第29-31页
    3.3 问题的描述与基本公式第31-32页
    3.4 问题的解答第32-34页
    3.5 应力场、电位移场和位错力第34-35页
    3.6 数值分析与讨论第35-41页
        3.6.1 表面效应对应力场和电位移场的影响第36-40页
        3.6.2 表面效应对位错力的影响第40-41页
    3.7 本章小结第41-42页
第4章 准晶中位错与直线纳米裂纹干涉的反平面问题第42-55页
    4.1 引言第42页
    4.2 问题的描述与基本公式第42-44页
    4.3 问题的解答第44-45页
    4.4 应力场和位错力第45-47页
    4.5 数值分析与讨论第47-53页
        4.5.1 表面效应对声子场和相位子场中应力场的影响第48-52页
        4.5.2 表面效应对声子场和相位子场中位错力的影响第52-53页
    4.6 本章小结第53-55页
第5章 位错与纳米椭圆孔干涉的反平面问题第55-68页
    5.1 引言第55页
    5.2 问题的描述与基本公式第55-57页
    5.3 问题的解答第57-58页
    5.4 应力场和位错力第58-60页
    5.5 数值分析与讨论第60-67页
        5.5.1 表面效应对应力场的影响第60-64页
        5.5.2 表面效应对位错力的影响第64-67页
    5.6 本章小结第67-68页
总结与展望第68-70页
参考文献第70-77页
附录 攻读学位期间发表的学术论文第77-78页
致谢第78页

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