| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·无机层状化合物简介 | 第14-15页 |
| ·无机层状化合物的结构 | 第14-15页 |
| ·无机层状化合物的分类 | 第15页 |
| ·石墨和氧化石墨简介 | 第15-19页 |
| ·石墨的结构与用途简介 | 第15-16页 |
| ·氧化石墨简介 | 第16-19页 |
| ·氧化石墨的结构 | 第16-18页 |
| ·氧化石墨的合成方法 | 第18-19页 |
| ·氧化石墨插层纳米复合材料的合成方法 | 第19-24页 |
| ·聚合物/氧化石墨复合材料的合成方法 | 第20-22页 |
| ·聚合物直接插层法 | 第20页 |
| ·单体原位聚合插层法 | 第20-21页 |
| ·自组装插层法 | 第21-22页 |
| ·无机物/氧化石墨复合材料的制备方法 | 第22-24页 |
| ·原位插层法 | 第22页 |
| ·液体插入法 | 第22-23页 |
| ·水热插层法 | 第23-24页 |
| ·氧化石墨插层复合材料的应用与发展前景 | 第24-28页 |
| ·作为半导体材料 | 第24-25页 |
| ·作为阻燃材料 | 第25-26页 |
| ·作为功能膜材料 | 第26页 |
| ·作为催化、吸附或储存材料 | 第26-27页 |
| ·其他方面应用 | 第27-28页 |
| ·选题依据和目的及实验主要研究内容 | 第28-31页 |
| ·选题依据和目的 | 第28-29页 |
| ·实验的主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 M~(2+)/GO插层复合材料的合成与表征 | 第31-46页 |
| ·前言 | 第31页 |
| ·实验部分 | 第31-36页 |
| ·实验药品及仪器 | 第31-32页 |
| ·实验药品 | 第31-32页 |
| ·实验仪器 | 第32页 |
| ·产物的表征方法 | 第32页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第32-33页 |
| ·铜离子插层氧化石墨材料的合成条件探索 | 第33-36页 |
| ·铜离子插层氧化石墨材料的合成方法 | 第33页 |
| ·铜离子插层氧化石墨材料的合成条件探索 | 第33-36页 |
| ·氧化石墨及Cu~(2+)/GO复合材料的表征分析 | 第36-41页 |
| ·X-射线粉末衍射分析 | 第36-37页 |
| ·红外光谱分析 | 第37-38页 |
| ·扫描电镜与扫描电镜能谱分析 | 第38-39页 |
| ·光电子能谱分析(XPS) | 第39-41页 |
| ·Zn~(2+)/GO复合材料的制备与表征分析 | 第41-45页 |
| ·Zn~(2+)/GO复合材料的制备 | 第41-42页 |
| ·Zn~(2+)/GO复合材料的表征 | 第42-45页 |
| ·XRD表征分析 | 第42页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第42-44页 |
| ·扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)分析 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 第3章 MS/GO纳米颗粒的制备、表征及其催化性能研究 | 第46-60页 |
| ·前言 | 第46-47页 |
| ·MS/GO复合材料的制备 | 第47页 |
| ·产品的表征与分析 | 第47-51页 |
| ·X-射线粉末衍射分析 | 第47-49页 |
| ·SEM分析 | 第49-50页 |
| ·FT-IR分析 | 第50-51页 |
| ·催化性能实验研究 | 第51-58页 |
| ·以硫酸铜为铜源制备CuS颗粒(普通CuS) | 第51-52页 |
| ·产物催化过氧化氢降解亚甲基蓝的实验方法 | 第52页 |
| ·亚甲基蓝和碱性品红的最大吸收波长 | 第52-53页 |
| ·铜离子插层氧化石墨复合材料的催化性能 | 第53-54页 |
| ·Ms/GO纳米颗粒的催化性能 | 第54-58页 |
| ·结论 | 第58-60页 |
| 第4章 混合有机溶剂中M~(2+)/GO复合材料的制备与表征 | 第60-68页 |
| ·前言 | 第60页 |
| ·混合溶剂制备M~(2+)/GO复合材料 | 第60页 |
| ·M~(2+)/GO复合材料的表征分析 | 第60-66页 |
| ·产物的XRD谱图分析 | 第60-61页 |
| ·产物的IR谱图分析 | 第61-62页 |
| ·产物的SEM和EDS谱图分析 | 第62-64页 |
| ·产物的XPS谱图分析 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第66-68页 |
| 第5章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
