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65nm NOR型闪存芯片RTS噪声研究

摘要第4-5页
abstract第5页
1 绪论第8-20页
    1.1 引言第8-12页
    1.2 闪存存储器简介与基本分类第12-16页
    1.3 闪存存储器的技术发展与展望第16-18页
    1.4 本论文主要内容和论文结构第18-20页
2 闪存工作原理与性能第20-35页
    2.1 闪存存储器的结构和原理第20-24页
        2.1.1 闪存单元的存储结构第20-22页
        2.1.2 浮栅型晶体管的基本工作原理第22-23页
        2.1.3 浮栅存储器的应用第23-24页
    2.2 闪存单元的基本工作模式第24-32页
        2.2.1 闪存单元的编程第24-27页
        2.2.2 闪存单元的擦除第27-31页
        2.2.3 闪存单元的软编程第31-32页
        2.2.4 闪存单元的读操作第32页
    2.3 闪存芯片可靠性的关键指标第32-34页
    2.4 本章小结第34-35页
3 65nm NOR型闪存随机电报噪声研究第35-53页
    3.1 闪存低频噪声的研究意义第35-36页
    3.2 半导体器件中的低频噪声第36-41页
        3.2.1 低频噪声的物理起因第36-37页
        3.2.2 低频噪声--1/f噪声第37-40页
        3.2.3 低频噪声--RTS噪声第40-41页
    3.3 低频噪声的测量和参数获取第41-45页
    3.4 基于RTS噪声的缺陷分布计算第45-48页
    3.5 阈值电压对RTS噪声的影响第48-51页
        3.5.1 俘获/发射时间对阈值电压的依存性第48-50页
        3.5.2 基于俘获/发射截面的物理模型第50-51页
    3.6 本章小结第51-53页
4 结论第53-54页
    4.1 论文的主要结论与创新点第53页
    4.2 对未来研究工作的展望第53-54页
参考文献第54-58页
个人简历、在学期间发表的学术论文及研究成果第58-59页
致谢第59页

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