| 致谢 | 第4-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 时间频率标准的发展历史 | 第10-12页 |
| 1.2 原子频标的原理和关键技术 | 第12-16页 |
| 1.2.1 原子频标的原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 离子光学频标研究中的三大关键技术 | 第14-15页 |
| 1.2.3 光学频标的发展现状 | 第15-16页 |
| 第二章 离子的产生与囚禁 | 第16-33页 |
| 2.1 囚禁离子原理 | 第16-18页 |
| 2.2 钙离子的相关能级与激光冷却 | 第18-21页 |
| 2.2.1 钙离子的相关能级 | 第18-20页 |
| 2.2.2 钙离子的激光Doppler冷却 | 第20-21页 |
| 2.3 钙离子激光溅射技术的基本原理研究 | 第21-24页 |
| 2.3.1 钙离子的光电离 | 第22-23页 |
| 2.3.2 激光溅射制备离子 | 第23-24页 |
| 2.4 离子激光溅射的实验装置 | 第24-29页 |
| 2.4.1 离子的产生与囚禁装置 | 第24-28页 |
| 2.4.2 离子的探测装置 | 第28-29页 |
| 2.5 激光溅射的初步实验结果 | 第29-32页 |
| 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 窄线宽激光器的频率漂移控制 | 第33-53页 |
| 3.1 外腔半导体激光器 | 第33-35页 |
| 3.2 Fabry-Perot参考腔基本原理与PDH稳频技术 | 第35-38页 |
| 3.2.1 F-P(Fabry-Perot)参考腔基本原理 | 第35-37页 |
| 3.2.2 PDH稳频技术的基本原理 | 第37-38页 |
| 3.3 飞秒光梳系统 | 第38-40页 |
| 3.4 超稳窄线宽激光器的实验实现 | 第40-48页 |
| 3.4.1 双向控温F-P参考腔系统的设计 | 第40-43页 |
| 3.4.2 F-P腔细度的测量 | 第43-45页 |
| 3.4.3 F-P参考腔的温度拐点的测量与控温 | 第45-48页 |
| 3.5 频率稳定结果测量 | 第48-52页 |
| 3.5.1 光纤噪声消除 | 第48-49页 |
| 3.5.2 稳频结果 | 第49-52页 |
| 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 总结与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 作者简介 | 第58页 |