| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 石墨烯简介 | 第11-13页 |
| 1.1.1 石墨烯的结构和性质 | 第11-13页 |
| 1.1.1.1 石墨烯的电学性质 | 第12-13页 |
| 1.1.1.2 石墨烯的热学性质 | 第13页 |
| 1.1.1.3 石墨烯的力学性质 | 第13页 |
| 1.1.1.4 石墨烯的场发射性质 | 第13页 |
| 1.2 石墨烯的制备方法 | 第13-17页 |
| 1.2.1 微机械剥离法 | 第14页 |
| 1.2.2 液相剥离法 | 第14页 |
| 1.2.3 外延生长法 | 第14-15页 |
| 1.2.4 电泳法 | 第15页 |
| 1.2.5 化学氧化还原法 | 第15-16页 |
| 1.2.6 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.3 场致电子发射理论 | 第17-23页 |
| 1.3.1 Fowler-Nordheim理论及公式 | 第17-22页 |
| 1.3.2 场发射阴极的应用 | 第22-23页 |
| 1.4 石墨烯的场致发射研究现状 | 第23-24页 |
| 1.4.1 石墨烯阴极场发射 | 第23页 |
| 1.4.2 石墨烯基复合材料阴极 | 第23-24页 |
| 1.5 论文研究的目的，内容和创新点 | 第24-26页 |
| 1.5.1 论文研究的目的 | 第24-25页 |
| 1.5.2 论文研究的内容 | 第25页 |
| 1.5.3 论文研究的创新点 | 第25-26页 |
| 第二章 石墨烯的制备系统与表征分析 | 第26-35页 |
| 2.1 石墨烯制备系统 | 第26-27页 |
| 2.1.1 石墨烯化学气相沉积生长系统 | 第26页 |
| 2.1.2 光纤激光打标机 | 第26-27页 |
| 2.2 石墨烯表征分析 | 第27-34页 |
| 2.2.1 光学显微镜 | 第27-29页 |
| 2.2.1.1 实验室仪器介绍 | 第27-28页 |
| 2.2.1.2 光学显微镜的工作原理 | 第28-29页 |
| 2.2.2 原子力显微镜 | 第29-31页 |
| 2.2.2.1 实验室仪器介绍 | 第29-30页 |
| 2.2.2.2 原子力显微镜的工作原理 | 第30-31页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第31-32页 |
| 2.2.3.1 实验室仪器介绍 | 第31-32页 |
| 2.2.3.2 扫描电子显微镜的工作原理 | 第32页 |
| 2.2.4 激光拉曼光谱仪 | 第32-34页 |
| 2.2.4.1 实验室仪器介绍 | 第32-33页 |
| 2.2.4.2 激光拉曼光谱仪的工作原理 | 第33-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 化学气相沉积法制备石墨烯 | 第35-45页 |
| 3.1 化学气相沉积法制备石墨烯 | 第35-38页 |
| 3.2 化学气相沉积法制备石墨烯转移方法 | 第38-40页 |
| 3.3 化学气相沉积法制备石墨烯的表征分析 | 第40-44页 |
| 3.3.1 表面形貌表征分析 | 第40-42页 |
| 3.3.2 原子力显微镜分析 | 第42-43页 |
| 3.3.3 拉曼光谱分析 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 基于石墨烯薄膜的有机光电子器件制备 | 第45-55页 |
| 4.1 化学气相沉积法制备石墨烯的电学性能 | 第45-46页 |
| 4.2 有机发光二极管（OLED）的制备与测试 | 第46-49页 |
| 4.3 有机场效应晶体管（OFET）的制备与测试 | 第49-51页 |
| 4.4 有机太阳能电池（OPV）的制备与测试 | 第51-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 化学气相沉积法制备石墨烯冷阴极场发射性能 | 第55-70页 |
| 5.1 场致电子发射测试系统介绍 | 第55-58页 |
| 5.1.1 场致电子发射测试的主要参数 | 第55-56页 |
| 5.1.2 场致电子发射测试器件的设计 | 第56-57页 |
| 5.1.3 场致电子发射测试系统 | 第57-58页 |
| 5.2 化学气相沉积石墨烯冷阴极的场发射 | 第58-62页 |
| 5.2.1 不同沉积时间对石墨烯冷阴极场发射性能的影响 | 第58-61页 |
| 5.2.2 不同沉积温度对石墨烯冷阴极场发射性能的影响 | 第61-62页 |
| 5.3 化学气相沉积法制备石墨烯冷阴极场发射性能优化 | 第62-67页 |
| 5.3.1 激光刻蚀铜箔衬底表面 | 第63-65页 |
| 5.3.1.1 激光刻蚀铜箔实验步骤 | 第63-64页 |
| 5.3.1.2 激光刻蚀铜箔后表面形貌变化 | 第64-65页 |
| 5.3.2 激光刻蚀铜箔衬底上生长的石墨烯场发射性能 | 第65-67页 |
| 5.4 化学气相沉积法石墨烯边缘场发射性能 | 第67-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
