摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
物理符号含义对照表 | 第13-14页 |
第1章 绪论 | 第14-24页 |
1.1 课题来源 | 第14页 |
1.2 研究背景 | 第14-15页 |
1.3 光学玻璃抛光技术 | 第15-17页 |
1.4 磁流变抛光技术概述 | 第17-21页 |
1.4.1 国外磁流变抛光技术的发展现状 | 第17-19页 |
1.4.2 国内磁流变抛光技术的发展现状 | 第19-21页 |
1.5 研究目的与内容 | 第21-23页 |
1.5.1 课题研究目的 | 第21-22页 |
1.5.2 论文研究内容与章节安排 | 第22-23页 |
1.6 本章小结 | 第23-24页 |
第2章 直线摆动方式磁流变平整加工工艺机理 | 第24-35页 |
2.1 直线摆动方式磁流变平整加工工艺材料去除机理 | 第24-27页 |
2.1.1 磁流变液的流变效应 | 第24-25页 |
2.1.2 直线摆动方式磁流变平整加工 | 第25-27页 |
2.2 抛光区域磁场 | 第27-29页 |
2.3 工件加工轨迹仿真 | 第29-34页 |
2.3.1 工件加工轨迹模型建立 | 第29-31页 |
2.3.2 工件加工轨迹仿真 | 第31-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
第3章 实验装置与检测仪器 | 第35-41页 |
3.1 实验装置 | 第35-37页 |
3.1.1 直线摆动方式磁流变平整加工装置 | 第35-36页 |
3.1.2 亚表面损伤测试实验装置 | 第36-37页 |
3.2 实验仪器 | 第37-39页 |
3.2.1 工件准备仪器 | 第37-38页 |
3.2.2 平整度检测仪器 | 第38-39页 |
3.2.3 亚表面损伤检测装置 | 第39页 |
3.3 实验材料 | 第39-40页 |
3.4 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 直线摆动方式磁流变平整加工工艺实验研究 | 第41-56页 |
4.1 摆动方式对加工效果的影响 | 第41-45页 |
4.1.1 摆动方式对材料去除率的影响 | 第42-43页 |
4.1.2 直线摆动方式对平整度的影响 | 第43-45页 |
4.2 直线摆动距离对加工效果影响 | 第45-47页 |
4.2.1 直线摆动距离对材料去除率的影响 | 第45-46页 |
4.2.2 直线摆动距离对平整度的影响 | 第46-47页 |
4.3 直线摆动速度对加工结果的影响 | 第47-49页 |
4.3.1 直线摆动速度对材料去除率的影响 | 第47-48页 |
4.3.2 直线摆动速度对平整度的影响 | 第48-49页 |
4.4 加工间隙对加工结果的影响 | 第49-51页 |
4.4.1 加工间隙对材料去除率的影响 | 第49-50页 |
4.4.2 加工间隙对平整度的影响 | 第50-51页 |
4.5 工件转速对加工结果的影响 | 第51-53页 |
4.5.1 工件转速对材料去除率的影响 | 第51-52页 |
4.5.2 工件转速对平整度的影响 | 第52-53页 |
4.6 研抛槽转速对加工结果的影响 | 第53-55页 |
4.6.1 研抛槽转速对材料去除率的影响 | 第53-54页 |
4.6.2 研抛槽转速对平整度的影响 | 第54-55页 |
4.7 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 磁流变平整加工去除亚表面损伤实验研究 | 第56-60页 |
5.1 亚表面损伤 | 第56页 |
5.2 亚表面损伤测试方法 | 第56-58页 |
5.3 去除亚表面损伤实验 | 第58-59页 |
5.3.1 实验过程及参数 | 第58页 |
5.3.2 亚表面损伤测结果分析 | 第58-59页 |
5.4 本章小结 | 第59-60页 |
结论与展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
致谢 | 第66页 |