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电解铜箔高温耐热镀层表面处理工艺及性能研究

摘要第3-5页
Absrtact第5-6页
第一章 绪论第9-17页
    1.1 电解铜箔简介第9-10页
    1.2 电解铜箔表面处理工艺流程第10-11页
    1.3 世界电解铜箔发展史第11-14页
        1.3.1 世界电解铜箔发展简史第11-12页
        1.3.2 国内电解铜箔发展历程第12-13页
        1.3.3 国内电解铜箔发展趋势第13-14页
    1.4 耐热镀层研究进展第14-15页
    1.5 选题背景、目的及意义第15-16页
    1.6 主要研究内容第16-17页
第二章 实验原理及检测方法第17-21页
    2.1 实验原理及测试方法第17-19页
        2.1.1 实验基础原理第17-18页
        2.1.2 实验设计原理第18-19页
    2.2 检测方法第19-21页
        2.2.1 扫描电子显微镜(SEM)第19页
        2.2.2 能谱(EDS)第19-20页
        2.2.3 抗剥离强度测试第20页
        2.2.4 粗糙度测试第20页
        2.2.5 掉粉现象的测试第20-21页
第三章 基础工艺实验及合金镀工艺实验第21-51页
    3.1 实验准备第21-22页
    3.2 基础工艺研究第22-30页
        3.2.1 铜箔表面预处理第23-24页
        3.2.2 添加剂种类及浓度第24-27页
        3.2.3 电镀工序的影响第27-28页
        3.2.4 主盐浓度的影响第28页
        3.2.5 电流密度的影响第28-29页
        3.2.6 电镀时间的影响第29-30页
        3.2.7 电镀液温度的影响第30页
        3.2.8 阳极板的影响第30页
    3.3.铜箔耐热层实验第30-35页
        3.3.1 实验流程第30-32页
        3.3.2 合金镀液的配制第32-34页
        3.3.3 实验步骤及检测第34-35页
    3.4.实验结果与讨论第35-49页
        3.4.1 合金镀层的EDS能谱分析第35-42页
        3.4.2 合金镀层的耐热实验结果分析第42-45页
        3.4.3 铜箔抗剥离强度实验结果分析第45-48页
        3.4.4 三元合金镀层电镜形貌观察第48-49页
    3.5 本章小结第49-51页
第四章 项目中试研究第51-55页
    4.1 工艺方案第51页
    4.2 中试所需的化学原材料第51页
    4.3 工艺控制条件第51-53页
    4.4 中试异常的调节方案第53页
    4.5 中试试验结论第53-55页
第五章 结论与展望第55-57页
第六章 致谢第57-58页
参考文献第58-61页
攻读学位期间研究成果第61-62页

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