| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 首字母缩略词 | 第9-12页 |
| 1 绪论：从等离子体到薄膜材料沉积 | 第12-43页 |
| 1.1 物理溅射沉积 | 第13-19页 |
| 1.1.1 薄膜生长的结构区域模型 | 第13-15页 |
| 1.1.2 等离子体放电类型 | 第15-16页 |
| 1.1.3 帕邢定律 | 第16-17页 |
| 1.1.4 固体表面的离子轰击效应 | 第17-19页 |
| 1.2 E × B放电等离子体动力学 | 第19-35页 |
| 1.2.1 溅射放电装置 | 第19-27页 |
| 1.2.2 电势峰 | 第27-28页 |
| 1.2.3 等离子体局域化：电离辐 | 第28-31页 |
| 1.2.4 电流陡增效应 | 第31-32页 |
| 1.2.5 自溅射效应和气体析出效应 | 第32-35页 |
| 1.3 吸气材料 | 第35-41页 |
| 1.3.1 吸气材料的工作原理 | 第35-37页 |
| 1.3.2 吸气材料的选择 | 第37-41页 |
| 1.3.3 吸气材料的应用：粒子加速器 | 第41页 |
| 1.4 本文研究目的 | 第41-43页 |
| 2 磁控溅射等离子体动力学 | 第43-78页 |
| 2.1 研究背景 | 第43-44页 |
| 2.2 实验装置和实验方法 | 第44-52页 |
| 2.2.1 放电系统 | 第45-46页 |
| 2.2.2 帧成像 | 第46-47页 |
| 2.2.3 条纹成像 | 第47-48页 |
| 2.2.4 粒子质量能量分析 | 第48-51页 |
| 2.2.5 悬浮电位探针 | 第51-52页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第52-76页 |
| 2.3.1 高功率脉冲磁控溅射(高电流密度) | 第52-63页 |
| 2.3.2 脉冲磁控溅射(中等电流密度) | 第63-69页 |
| 2.3.3 直流和脉冲磁控溅射(低电流密度) | 第69-76页 |
| 2.4 第二章总结 | 第76-78页 |
| 3 在极细管状腔内沉积非蒸发吸气材料 | 第78-97页 |
| 3.1 研究背景 | 第78-80页 |
| 3.2 实验装置与实验方法 | 第80-85页 |
| 3.2.1 沉积装置 | 第81-83页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜 | 第83页 |
| 3.2.3 能量色散X射线光谱仪 | 第83-84页 |
| 3.2.4 卢瑟福背散射仪和粒子激发X射线荧光分析仪 | 第84-85页 |
| 3.3 绞线阴极和合金阴极沉积的比较 | 第85-96页 |
| 3.3.1 绞线阴极沉积的实验结果与讨论 | 第86-90页 |
| 3.3.2 合金线阴极沉积的实验结果与讨论 | 第90-93页 |
| 3.3.3 卢瑟福背散射分析的准确性讨论 | 第93-96页 |
| 3.4 第三章总结 | 第96-97页 |
| 4 全文总结与展望 | 第97-102页 |
| 4.1 全文总结 | 第97-100页 |
| 4.2 研究亮点 | 第100页 |
| 4.3 研究展望 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-104页 |
| 附件 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-112页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表论文、参会和获奖情况 | 第112-113页 |