| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射 | 第12-14页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射的发展 | 第12-13页 |
| ·离化机制及放电过程中的离子组份 | 第13-14页 |
| ·离化率 | 第14-18页 |
| ·离化率的定义 | 第14-15页 |
| ·影响离化率的因素 | 第15-16页 |
| ·离化率对薄膜结构和性能的影响 | 第16-18页 |
| ·等离子体诊断技术的研究现状 | 第18-23页 |
| ·等离子体发射光谱 | 第18-19页 |
| ·质谱仪 | 第19-20页 |
| ·利用离子流计算离子原子比 | 第20-21页 |
| ·能量分析器 | 第21-23页 |
| ·氮化钛薄膜的研究现状 | 第23页 |
| ·本文的研究目的及研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第25-33页 |
| ·高功率脉冲磁控溅射设备 | 第25页 |
| ·基体材料的选择与处理 | 第25-26页 |
| ·等离子体诊断 | 第26-28页 |
| ·电学参数的采集与计算 | 第26页 |
| ·光谱的采集 | 第26-27页 |
| ·离子流的采集 | 第27-28页 |
| ·薄膜膜厚与应力的测量 | 第28-29页 |
| ·薄膜的表面形貌和断面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·光学显微镜(OM)形貌分析 | 第29页 |
| ·原子力显微镜(AFM)形貌分析 | 第29页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)形貌分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜成分和结构表征 | 第30页 |
| ·成分分析 | 第30页 |
| ·相结构分析 | 第30页 |
| ·薄膜机械性能表征 | 第30-33页 |
| ·显微硬度测量 | 第30-31页 |
| ·膜基结合力分析 | 第31-33页 |
| 第3章 离化率测试方法及金属原子离化率的调控 | 第33-46页 |
| ·离化率测试方法 | 第33-35页 |
| ·离子流的测量 | 第33-34页 |
| ·发射光谱法 | 第34-35页 |
| ·金属原子离化率的调控 | 第35-44页 |
| ·脉冲宽度对靶材放电特性及金属原子离化率的影响 | 第36-38页 |
| ·平均功率相同时脉宽对靶材放电特性及金属原子离化率的影响 | 第38-40页 |
| ·频率对靶材放电特性及金属原子离化率的影响 | 第40-42页 |
| ·峰值电流对靶材放电特性及金属原子离化率的影响 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 金属原子基片前的离化率及其对纯钛薄膜的影响 | 第46-57页 |
| ·不同峰值电流下基片前金属原子的离化率 | 第46-49页 |
| ·等离子体密度的测量 | 第46-47页 |
| ·基片前金属原子离化率 | 第47-48页 |
| ·基片前离子数量 | 第48-49页 |
| ·金属原子离化率对纯钛薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| ·纯钛薄膜的制备 | 第49-50页 |
| ·沉积速率 | 第50-51页 |
| ·离化率对薄膜结构的影响 | 第51-53页 |
| ·离化率对薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·离化率对薄膜应力的影响 | 第54-55页 |
| ·离化率对薄膜硬度的影响 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 金属原子离化率对氮化钛薄膜的影响 | 第57-67页 |
| ·氮化钛薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·氮化钛薄膜沉积速率及微观结构 | 第58-62页 |
| ·薄膜沉积速率 | 第58-59页 |
| ·薄膜结构分析 | 第59-61页 |
| ·薄膜成分分析 | 第61-62页 |
| ·薄膜力学性能评价 | 第62-65页 |
| ·薄膜残余应力分析 | 第62-63页 |
| ·薄膜硬度分析 | 第63-64页 |
| ·膜基结合力分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第76页 |