摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 前言 | 第9-23页 |
·半导体光催化技术概述 | 第9-11页 |
·光催化研究背景 | 第9页 |
·半导体光催化的基本原理 | 第9-11页 |
·石墨相氮化碳的研究现状 | 第11-20页 |
·石墨相氮化碳的发展历史 | 第11-12页 |
·g-C_3N_4化碳的制备 | 第12-17页 |
·g-C_3N_4在光催化研究中的应用 | 第17-19页 |
·g-C_3N_4的改性 | 第19-20页 |
·立题依据和研究方案 | 第20-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-28页 |
·主要实验药品及仪器 | 第23-25页 |
·主要实验药品 | 第23-24页 |
·主要实验仪器 | 第24-25页 |
·实验内容 | 第25-28页 |
·光催化剂的制备 | 第25页 |
·光催化剂表征 | 第25-27页 |
·光催化反应活性评价 | 第27-28页 |
第三章 MoS_2/mpg-CN催化剂的制备及光解水制氢性能的研究 | 第28-41页 |
·引言 | 第28-29页 |
·材料表征 | 第29-40页 |
·XRD衍射谱图 | 第29-30页 |
·FT-IR谱图 | 第30-31页 |
·BET | 第31-32页 |
·TEM | 第32-33页 |
·X射线电子能谱图 | 第33-35页 |
·UV-Vis漫反射分析 | 第35-36页 |
·稳态PL和光电性能分析 | 第36-37页 |
·MoS_2/mpg-CN的光催化制氢 | 第37-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第四章 WS_2/mpg-CN催化剂的制备及光解水制氢性能的研究 | 第41-50页 |
·引言 | 第41页 |
·材料表征 | 第41-49页 |
·WS_2/mpg-CN的织构 | 第41-43页 |
·X射线电子能谱 | 第43-45页 |
·光学性质分析 | 第45-46页 |
·WS_2/mpg-CN的光催化制氢和光电性能分析 | 第46-48页 |
·WS_2/mpg-CN光催化制氢机理 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第五章 CoS/mpg-CN催化剂的制备及光解水制氢性能的研究 | 第50-58页 |
·引言 | 第50页 |
·催化剂表征 | 第50-57页 |
·XRD衍射谱图 | 第50-51页 |
·BET | 第51-52页 |
·TEM | 第52-53页 |
·X射线电子能谱(XPS) | 第53页 |
·DRS | 第53-54页 |
·稳态PL | 第54-55页 |
·样品的光催化制氢 | 第55-57页 |
·光电性能分析 | 第57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
结论与展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
个人简历 | 第70-71页 |
在读期间已发表的论文 | 第71页 |