oBN薄膜的制备及BN膜对生物接种丝的表面改性
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·氮化硼的结构与性质 | 第10-17页 |
| ·立方氮化硼（cBN）的结构与性质 | 第10-12页 |
| ·正交氮化硼（oBN）的结构与性质 | 第12-14页 |
| ·其他异构体氮化硼的结构与性质 | 第14-17页 |
| ·BN 薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·化学气相沉积方法（CVD） | 第17-18页 |
| ·物理气相沉积方法（PVD） | 第18-20页 |
| ·两种生长方法的比较 | 第20页 |
| ·影响BN 薄膜沉积的因素 | 第20-21页 |
| ·BN 的应用 | 第21-23页 |
| ·本论文的选题背景和研究内容 | 第23-24页 |
| ·选题背景 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 BN 薄膜沉积系统及表征手段 | 第24-30页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第24-26页 |
| ·射频溅射 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25-26页 |
| ·BN 薄膜的表征手段 | 第26-28页 |
| ·傅立叶变换红外光谱（FTIR） | 第26-27页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第27-28页 |
| ·紫外-可见光谱（UV-vis） | 第28页 |
| ·BN 薄膜的沉积设备 | 第28-30页 |
| 第三章 oBN 薄膜的制备及退火研究 | 第30-47页 |
| ·氮化硼薄膜的基本制备过程 | 第30-31页 |
| ·衬底的处理 | 第30页 |
| ·基本镀膜过程和实验参数 | 第30-31页 |
| ·沉积时间对制备BN 薄膜的影响 | 第31-33页 |
| ·衬底温度对制备BN 薄膜的影响 | 第33-35页 |
| ·射频功率对制备BN 薄膜的影响 | 第35-36页 |
| ·oBN 薄膜的制备及表征 | 第36-43页 |
| ·oBN 薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·oBN 薄膜的红外光谱（FTIR）分析 | 第37-38页 |
| ·oBN 薄膜的拉曼光谱（Raman）分析 | 第38-39页 |
| ·oBN 薄膜的扫描电子显微镜（SEM）分析 | 第39-41页 |
| ·oBN 薄膜的紫外-可见光谱研究 | 第41-43页 |
| ·oBN 薄膜退火后相转变的研究 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 BN 膜涂层对生物接种丝的表面改性 | 第47-55页 |
| ·合金接种丝预处理及主要实验参数 | 第47-48页 |
| ·时间对接种丝上沉积BN 膜涂层的影响 | 第48-49页 |
| ·镀膜前后接种丝的能谱（EDS）分析 | 第49-50页 |
| ·镀膜后接种丝的红外光谱（FTIR）分析 | 第50-51页 |
| ·镀膜前后接种丝的光学照片表征 | 第51-52页 |
| ·镀膜后的接种丝的生物实验和SEM 表征 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 全文总结 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和专利 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
