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表面应力敏感微梁的设计制作及双光栅干涉测量方法

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第1章 引言第9-20页
   ·课题背景和意义第9页
   ·国内外研究现状第9-18页
     ·微梁生化检测技术的研究现状第9-14页
     ·集成光栅干涉微位移测量方法的研究现状第14-18页
   ·论文研究目标和主要任务第18-20页
     ·论文研究目标第18-19页
     ·论文研究内容第19-20页
第2章 集成双光栅干涉微位移测量的光学理论基础及设计第20-40页
   ·集成双光栅干涉位移测量基本原理第20-24页
     ·集成光栅干涉位移测量原理第20-23页
       ·基本原理第20-21页
       ·基于标量衍射理论的矩形槽光栅模型第21-23页
     ·集成双光栅干涉位移测量原理第23-24页
   ·基于矢量衍射理论的仿真及分析第24-34页
     ·集成光栅输出光强的计算第25-28页
     ·输出光强的余弦拟合及分析第28-31页
     ·间距和占空比的影响第31-34页
   ·集成双光栅的参数选择与扩量程位移的计算流程第34-39页
     ·参数选择第34-35页
     ·集成双光栅扩量程位移的计算流程第35-37页
     ·仿真第37-39页
   ·本章小结第39-40页
第3章 集成双光栅表面应力敏感微梁的设计第40-59页
   ·集成双光栅表面应力敏感微梁的工作原理第40-41页
   ·表面应力敏感微梁的力学理论分析第41-46页
     ·微梁结构及静态特性分析第41-45页
     ·动态特性分析第45-46页
   ·微梁的结构设计及仿真第46-54页
     ·结构设计第46-49页
     ·结构的有限元仿真第49-54页
       ·有限元模型第49-50页
       ·支撑梁结构尺寸对灵敏度的影响第50-52页
       ·模态分析第52-53页
       ·敏感层长度的优化设计第53-54页
   ·灵敏度分析及补偿结构设计第54-58页
     ·灵敏度分析第54-56页
     ·补偿结构设计第56-58页
   ·本章小结第58-59页
第4章 微梁阵列敏感芯片的制作第59-84页
   ·铝梁阵列加工工艺第59-62页
     ·工艺流程设计第59-60页
     ·加工结果与分析第60-62页
   ·聚酰亚胺微梁阵列加工工艺第62-83页
     ·工艺设计第62-63页
     ·关键工艺第63-71页
       ·基底上刻蚀凹槽的深度控制第64页
       ·玻璃浅槽上的剥离工艺第64-68页
       ·淀积金属牺牲层第68-70页
       ·表面牺牲层结构释放第70-71页
     ·夹心反射面结构的加工第71-78页
       ·夹心反射面结构的工艺流程第71-72页
       ·夹心反射面结构的流片结果第72-78页
     ·单层聚酰亚胺结构的加工第78-83页
       ·单层聚酰亚胺结构的工艺流程第78-80页
       ·单层聚酰亚胺结构的流片结果第80-83页
   ·本章小结第83-84页
第5章 集成双光栅微梁测试实验第84-109页
   ·实验装置第84-91页
     ·实验装置的构成第84页
     ·光路系统第84-87页
     ·图像处理方法第87-89页
     ·微流体系统第89-91页
   ·测试系统的噪声测试及分析第91-99页
     ·CCD 的噪声测试第91-92页
     ·扩束激光的噪声测试第92-95页
     ·检测系统整体噪声测试第95-99页
   ·微梁位移测试实验第99-106页
     ·铝梁位移测试实验第99-103页
     ·聚酰亚胺结构位移测试实验第103-106页
   ·免疫反应初步实验第106-108页
     ·芯片制备及实验方法第107页
     ·免疫反应初步实验第107-108页
   ·本章小结第108-109页
第6章 结论及展望第109-112页
   ·论文的主要工作及结论第109-110页
   ·主要贡献和创新点第110页
   ·问题与展望第110-112页
参考文献第112-117页
致谢第117-119页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第119-120页

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