奈韦拉平片质量标准及处方工艺研究
| 中文摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 英文缩略词 | 第12-13页 |
| 前言 | 第13-18页 |
| 第一部分 奈韦拉平片质量标准研究 | 第18-56页 |
| 1 仪器与试药 | 第18页 |
| 2 方法与结果 | 第18-54页 |
| ·高效液相色谱条件的选择 | 第18-24页 |
| ·流动相的选择 | 第18-21页 |
| ·色谱柱考察 | 第21-22页 |
| ·检测波长的选择 | 第22-24页 |
| ·含量测定方法学考察 | 第24-28页 |
| ·线性与线性范围 | 第24-25页 |
| ·精密度实验 | 第25页 |
| ·稳定性实验 | 第25-26页 |
| ·重复性试验 | 第26页 |
| ·定量限 | 第26-27页 |
| ·空白实验 | 第27页 |
| ·回收率试验 | 第27-28页 |
| ·含量测定定标准 | 第28页 |
| ·有关物质方法学考察及杂质限度设定 | 第28-34页 |
| ·专属性 | 第28-31页 |
| ·检测限 | 第31页 |
| ·溶液的稳定性 | 第31页 |
| ·标准限度选择 | 第31-33页 |
| ·有关物质拟定标准 | 第33-34页 |
| ·奈韦拉平片在四种不同溶出介质中溶出度考察 | 第34-40页 |
| ·溶出介质的制备 | 第34页 |
| ·对照品溶液的制备 | 第34-35页 |
| ·三厂家奈韦拉平片在四种溶出介质中溶出曲线比较 | 第35-40页 |
| ·溶出度测定方法的建立 | 第40-46页 |
| ·HPLC 法与 UV 法测定结果比较 | 第40-41页 |
| ·奈韦拉平对照品溶解方法考察 | 第41-42页 |
| ·测定波长的选择 | 第42页 |
| ·溶出介质 pH 值的考察 | 第42-43页 |
| ·溶出度测定方法学考察 | 第43-45页 |
| ·溶出度测定拟定标准 | 第45-46页 |
| ·奈韦拉平片残留溶剂研究 | 第46-52页 |
| ·国内外奈韦拉平残留溶剂标准比较 | 第46-47页 |
| ·色谱条件与系统适用性实验 | 第47页 |
| ·空白试验 | 第47页 |
| ·线性考察 | 第47-51页 |
| ·检测限 | 第51页 |
| ·奈韦拉平残留溶剂测定拟定标准 | 第51-52页 |
| ·奈韦拉平片修订后标准草案 | 第52-54页 |
| 3 讨论 | 第54-55页 |
| 4 小结 | 第55-56页 |
| 第二部分 奈韦拉平片处方工艺研究 | 第56-65页 |
| 1 仪器与试药 | 第56页 |
| 2 方法与结果 | 第56-63页 |
| ·成型工艺的选择 | 第56-57页 |
| ·原辅料的处理 | 第57页 |
| ·制剂规格的确定 | 第57页 |
| ·基本处方及工艺 | 第57页 |
| ·奈韦拉平片处方工艺单因素考察 | 第57-61页 |
| ·硬度选择 | 第57-58页 |
| ·填充剂的选择 | 第58-59页 |
| ·崩解剂的选择 | 第59-61页 |
| ·正交设计法优化处方 | 第61-63页 |
| 3 讨论 | 第63-64页 |
| 4 小结 | 第64-65页 |
| 第三部分 奈韦拉平片初步稳定性研究 | 第65-70页 |
| 1 仪器与试药 | 第65页 |
| 2 | 第65-69页 |
| ·影响因素试验 | 第65-67页 |
| ·光照试验 | 第65-66页 |
| ·高温试验 | 第66-67页 |
| ·高湿试验 | 第67页 |
| ·加速试验 | 第67-69页 |
| 3 讨论 | 第69页 |
| 4 小结 | 第69-70页 |
| 全篇小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 综述 | 第74-80页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第80-81页 |
| 个人简历 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
