摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-13页 |
目录 | 第13-15页 |
第一章 绪论 | 第15-33页 |
·研究背景 | 第15页 |
·铋基低维结构氧化物的合成技术 | 第15-18页 |
·铋基低维结构氧化物结构和组分的表征手段 | 第18-20页 |
·铋基低维结构氧化物的电学表征手段 | 第20-21页 |
·铋基低维结构氧化物的光学表征手段 | 第21-27页 |
·博士期间的研究工作 | 第27-29页 |
参考文献 | 第29-33页 |
第二章 钛酸铋及镧掺杂铁电低维结构的合成及其光学和电学性质研究 | 第33-63页 |
·引言 | 第33页 |
·镧掺杂对钛酸铋铁电薄膜择优取向及其能带结构的影响 | 第33-47页 |
·镧掺杂钛酸铋铁电薄膜的制备 | 第34-36页 |
·镧掺杂对钛酸铋铁电薄膜择优取向的影响 | 第36-39页 |
·镧掺杂对钛酸铋铁电薄膜光学性质的影响 | 第39-47页 |
·一维Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)纳米管阵列的合成与光电特性研究 | 第47-57页 |
·一维Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)纳米管阵列的合成 | 第48-49页 |
·一维Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)纳米管阵列的微观结构和化学组分 | 第49-53页 |
·一维Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)纳米管阵列的光学特性 | 第53-56页 |
·一维Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)铁电纳米管阵列的电学特性 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
第三章 镧和锰共掺杂铁酸铋多铁薄膜的制备及其光电特性研究 | 第63-81页 |
·引言 | 第63-64页 |
·镧和锰共掺杂铁酸铋多铁薄膜的制备 | 第64-65页 |
·镧和锰共掺杂对铁酸铋多铁薄膜的微结构的影响 | 第65-67页 |
·镧和锰共掺杂对铁酸铋多铁薄膜的光学性质的影响 | 第67-69页 |
·镧和锰共掺杂对铁酸铋多铁薄膜的电学性质的影响 | 第69-75页 |
·本章小结 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
第四章 不同Fe掺杂浓度对TiO_2多晶薄膜微结构及其光学性质的影响 | 第81-117页 |
·引言 | 第81-82页 |
·铁掺杂对金红石相TiO_2薄膜微结构及其光学性质的影响 | 第82-96页 |
·金红石相铁掺杂TiO_2多晶薄膜的制备 | 第83-84页 |
·铁掺杂对金红石相TiO_2多晶薄膜微结构的影响 | 第84-86页 |
·铁掺杂对金红石相TiO_2多晶薄膜光学性质的影响 | 第86-96页 |
·铁掺杂对锐钛矿相TiO_2薄膜微结构及其能带结构的影响 | 第96-113页 |
·锐钛矿相铁掺杂TiO_2多晶薄膜的制备 | 第97-98页 |
·铁掺杂对锐钛矿相TiO_2多晶薄膜微结构的影响 | 第98-101页 |
·铁掺杂对锐钛矿相TiO_2多晶薄膜光学性质的影响 | 第101-113页 |
·本章小结 | 第113-114页 |
参考文献 | 第114-117页 |
第五章 总结与展望 | 第117-121页 |
·总结 | 第117-120页 |
·展望 | 第120-121页 |
附录Ⅰ 在Matlab工作环境下光谱数据处理程序设计 | 第121-131页 |
附录Ⅱ 攻读博士学位期间科研成果清单及奖励 | 第131-133页 |
附录Ⅲ 致谢 | 第133-134页 |