| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-25页 |
| ·纳米材料简介 | 第8-12页 |
| ·纳米科技的发展历史 | 第8页 |
| ·纳米材料的内涵 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的特性 | 第9-11页 |
| ·纳米材料的应用 | 第11-12页 |
| ·纳米 MoS_2的研究现状 | 第12-22页 |
| ·MoS_2的基本结构及特性 | 第12-13页 |
| ·纳米 MoS_2的形貌结构 | 第13-15页 |
| ·纳米 MoS_2的制备 | 第15-20页 |
| ·纳米 MoS_2的应用 | 第20-22页 |
| ·金属/半导体接触整流理论 | 第22-24页 |
| ·本论文的研究思想及工作 | 第24-25页 |
| 第二章 纳米二硫化钼的制备及表征 | 第25-38页 |
| ·前驱体(NH_4)_2MOS_4的制备 | 第26-29页 |
| ·实验内容 | 第26-27页 |
| ·四硫代钼酸铵(NH_4)_2MoS_4的 XRD 表征 | 第27-28页 |
| ·金相显微镜图片 | 第28页 |
| ·(NH_4)_2MoS_4的 UV-vis 检测 | 第28-29页 |
| ·制备(NH_4)_2MoS_4的反应机理 | 第29页 |
| ·制备纳米 MoS_2微粒 | 第29-37页 |
| ·纳米 MoS_2的制备 | 第30-31页 |
| ·纳米 MoS_2的 XRD 分析 | 第31页 |
| ·纳米 MoS_2的 SEM 检测 | 第31-32页 |
| ·纳米 MoS_2的能谱分析 | 第32-33页 |
| ·不同反应条件对纳米 MoS_2产物的影响 | 第33-35页 |
| ·纳米 MoS_2的 UV-vis 分析 | 第35-36页 |
| ·(NH_4)_2MoS_4分解制备纳米 MoS_2的反应机理 | 第36-37页 |
| 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 MoS_2/Al 的制备及 I-V 性能研究 | 第38-46页 |
| ·MoS_2/Al 的制备及表征 | 第38-41页 |
| ·纳米 MoS_2薄膜的制备 | 第38-40页 |
| ·MoS_2/Al 的 XRD 检测 | 第40页 |
| ·MoS_2/Al 的 SEM 检测 | 第40-41页 |
| ·MoS_2/A1 的 I-V 性能研究 | 第41-44页 |
| ·MoS_2/Al 的 I-V 性能检测 | 第41页 |
| ·退火时间对 MoS_2/Al 的 I-V 性能的影响 | 第41-43页 |
| ·MoS_2/Al 涂层薄膜纵向电流的分析 | 第43-44页 |
| 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 个人简历 | 第55页 |
