电弧源制备氧化铝薄膜的工艺研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-14页 |
| ·光学薄膜制备技术 | 第7-8页 |
| ·离子镀技术 | 第8-10页 |
| ·电弧源技术的工作原理 | 第10-11页 |
| ·电弧源技术的发展历程及研究现状 | 第11-13页 |
| ·电弧源技术的发展历程 | 第11-12页 |
| ·电弧源技术的研究现状 | 第12-13页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第13-14页 |
| 2 薄膜的形成过程、制备和测试 | 第14-27页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第14-16页 |
| ·电弧源技术制备氧化铝薄膜 | 第16-20页 |
| ·氧化铝薄膜的应用及研究现状 | 第16-17页 |
| ·电弧源技术制备氧化铝薄膜方案 | 第17-20页 |
| ·薄膜测试设备 | 第20-27页 |
| ·分光光度计 | 第21页 |
| ·椭偏仪 | 第21-23页 |
| ·白光干涉仪 | 第23-24页 |
| ·膜厚测试仪 | 第24-27页 |
| 3 电弧源制备氧化铝薄膜的性能分析 | 第27-37页 |
| ·工艺参数对氧化铝薄膜折射率的影响 | 第27-29页 |
| ·氧气分量对氧化铝薄膜折射率的影响 | 第27-28页 |
| ·靶电流对氧化铝薄膜折射率的影响 | 第28-29页 |
| ·工艺参数对氧化铝薄膜消光系数的影响 | 第29-31页 |
| ·氧气分量对氧化铝薄膜的消光系数的影响 | 第29-31页 |
| ·靶电流对氧化铝薄膜消光系数的影响 | 第31页 |
| ·氧气分量对氧化铝薄膜表面粗糙度的影响 | 第31-33页 |
| ·电弧源制备氧化铝簿膜附着力分析 | 第33-35页 |
| ·附着力的类型和性质 | 第33页 |
| ·光学薄膜附着力测试的方法 | 第33-35页 |
| ·氧化铝薄膜的附着力分析 | 第35页 |
| ·小结 | 第35-37页 |
| 4 氧化铝薄膜的沉积速率和均匀性分析 | 第37-44页 |
| ·氧化铝薄膜的沉积速率分析 | 第37-40页 |
| ·氧气分量对氧化铝薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·靶电流对氧化铝薄膜沉积速率的影响 | 第38页 |
| ·氧化铝薄膜沉积速率随时间的变化 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| ·氧化铝薄膜的均匀性分析 | 第40-44页 |
| ·氧气分量对薄膜均匀性的影响 | 第41-42页 |
| ·电弧源靶电流对薄膜均匀性的影响 | 第42页 |
| ·沉积时间对薄膜均匀性的影响 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 5 氧化铝薄膜的激光损伤阈值分析 | 第44-49页 |
| ·薄膜的损伤机理 | 第44页 |
| ·薄膜激光损伤阈值的测试 | 第44-46页 |
| ·薄膜损伤的判别方法 | 第44-45页 |
| ·薄膜损伤的测试方法 | 第45-46页 |
| ·氧气分量对氧化铝薄膜的激光损伤阈值的影响 | 第46-47页 |
| ·靶电流对氧化铝薄膜的激光损伤阈值的影响 | 第47页 |
| ·小结 | 第47-49页 |
| 6 结论与展望 | 第49-51页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| ·展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
