| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·碲镉汞薄膜液相外延生长工艺 | 第10-14页 |
| ·碲锌镉衬底的生长 | 第10-11页 |
| ·碲镉汞薄膜液相外延生长 | 第11-13页 |
| ·液相外延生长时影响碲镉汞薄膜质量的因数 | 第13-14页 |
| ·红外焦平面探测器对碲镉汞薄膜材料性能要求 | 第14页 |
| ·本论文研究的意义与研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 实验设计 | 第16-18页 |
| ·实验方案 | 第16-17页 |
| ·检测与表征 | 第17-18页 |
| 第三章 碲锌镉衬底缺陷与液相外延碲镉汞薄膜结构的关系探讨 | 第18-28页 |
| ·X射线形貌相术及X射线双晶衍射 | 第18-22页 |
| ·X射线形貌相术 | 第18-20页 |
| ·X射线双晶衍射技术 | 第20-22页 |
| ·实验 | 第22-27页 |
| ·碲锌镉衬底沉积相检测 | 第22-23页 |
| ·碲锌镉衬底X射线形貌相 | 第23-25页 |
| ·碲锌镉衬底和碲镉汞薄膜各点FWHM的变化 | 第25-27页 |
| ·本章结论 | 第27-28页 |
| 第四章 液相外延碲镉汞薄膜表面常见缺陷的探讨与分析 | 第28-41页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·缺陷的观测分析与消除 | 第28-40页 |
| ·孪晶线与晶界 | 第28-30页 |
| ·碲夹杂 | 第30-31页 |
| ·黑点缺陷 | 第31-32页 |
| ·析晶 | 第32-33页 |
| ·划道 | 第33-34页 |
| ·表面交叉线条 | 第34页 |
| ·表面起伏波纹 | 第34-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 碲镉汞液相外延薄膜位错腐蚀坑密度研究 | 第41-60页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·位错腐蚀方法及腐蚀剂的选择 | 第41-45页 |
| ·位错腐蚀方法 | 第41-42页 |
| ·国外碲镉汞外延层位错腐蚀剂及腐蚀条件的比较选择 | 第42-45页 |
| ·碲镉汞液相外延薄膜位错腐蚀坑特性分析 | 第45-52页 |
| ·位错腐蚀坑分类 | 第45-46页 |
| ·薄膜表面宏观缺陷对EPD的影响 | 第46-50页 |
| ·薄膜表面EPD分布 | 第50-52页 |
| ·薄膜EPD衬底EPD与薄膜FWHM及薄膜厚度的相互关系 | 第52-55页 |
| ·薄膜EPD与衬底EPD及薄膜FWHM的关系 | 第52-54页 |
| ·薄膜EPD与薄膜厚度的对应分布 | 第54-55页 |
| ·退火条件的选择对碲镉汞液相外延薄膜EPD的影响 | 第55-59页 |
| ·常规退火对薄膜EPD的影响 | 第55-57页 |
| ·变温循环退火薄膜EPD的影响 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 碲镉汞液相外延薄膜组分偏差 | 第60-68页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·碲镉汞液相外延薄膜组分横向分布 | 第61-64页 |
| ·碲镉汞液相外延薄膜组分纵向分布 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第七章 总结 | 第68-71页 |
| ·结论 | 第68-69页 |
| ·需要进一步研究的工作 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
