摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-14页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
·引言 | 第14-15页 |
·ZnO 薄膜的基本性质与应用 | 第15-17页 |
·ZnO 薄膜的晶体结构 | 第15-16页 |
·ZnO 薄膜的基本性能及应用研究 | 第16-17页 |
·ZnO 薄膜的掺杂现状与禁带宽度调控效应 | 第17-21页 |
·ZnO 薄膜的掺杂研究 | 第17-19页 |
·掺杂影响光学带隙的相关效应 | 第19-20页 |
·ZnO 薄膜的掺杂与光学带隙调制 | 第20-21页 |
·光电探测器的相关原理 | 第21-24页 |
·光辐射探测器的分类 | 第21-22页 |
·光电探测器的原理 | 第22-23页 |
·光电子发射(PE)探测器和微光像增强器 | 第23-24页 |
·ZnO 基光电探测器的研究状况 | 第24-27页 |
·本论文的研究目的和主要内容 | 第27-28页 |
第二章 溶胶—凝胶法制备 ZnO 基合金薄膜的研究 | 第28-60页 |
·引言 | 第28页 |
·薄膜的制备与表征 | 第28-31页 |
·薄膜的制备 | 第28-31页 |
·薄膜性能的表征手段 | 第31页 |
·MgZnO 薄膜的结构及性能表征 | 第31-38页 |
·MgZnO 薄膜的 XRD 分析 | 第32-33页 |
·MgZnO 薄膜的表面形貌分析 | 第33-35页 |
·MgZnO 薄膜的光学性能 | 第35-37页 |
·MgZnO 薄膜的电阻率 | 第37-38页 |
·CdZnO 薄膜的结构与性能表征 | 第38-43页 |
·CdZnO 薄膜的结构与成分表征 | 第38-39页 |
·CdZnO 薄膜的表面形貌分析 | 第39-40页 |
·光学性能表征 | 第40-42页 |
·CdZnO 薄膜的电阻率 | 第42-43页 |
·AZO 薄膜的结构和性能表征 | 第43-53页 |
·XRD 分析 | 第43-44页 |
·表面形貌分析 | 第44-45页 |
·AZO 薄膜的光学特性 | 第45-48页 |
·AZO 薄膜的电阻率 | 第48-49页 |
·AZO 薄膜的 X 射线光电子能谱分析 | 第49-53页 |
·MgZnO,CdZnO, AZO 三种合金薄膜的对比 | 第53-59页 |
·掺杂对薄膜结构的影响 | 第53-56页 |
·掺杂对禁带宽度的调制作用 | 第56-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第三章 射频磁控溅射法制备 AZO 薄膜的性能研究 | 第60-80页 |
·引言 | 第60-61页 |
·实验部分 | 第61-63页 |
·磁控溅射法的原理及特点 | 第61-62页 |
·实验条件与工艺流程 | 第62-63页 |
·Al 浓度对 AZO 薄膜的影响研究 | 第63-68页 |
·XRD 分析 | 第63-64页 |
·SEM 分析 | 第64-65页 |
·成分分析 | 第65页 |
·光学透过率分析 | 第65-67页 |
·电阻率特性 | 第67-68页 |
·氧气氛对 AZO 薄膜的影响 | 第68-79页 |
·不同氧分压下 AZO 薄膜的 XRD 分析 | 第69-72页 |
·不同氧分压下 AZO 薄膜的电阻率和厚度 | 第72-73页 |
·不同氧分压下 AZO 薄膜的透光率分析 | 第73-74页 |
·不同氧分压下 AZO 薄膜的拉曼光谱分析 | 第74-76页 |
·不同氧分压下 AZO 薄膜的 SEM 分析 | 第76-78页 |
·氧分压对 AZO 薄膜微结构及性能的影响分析 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
第四章 AZO 薄膜的光响应及表面性质的研究 | 第80-105页 |
·引言 | 第80-81页 |
·AZO 光电探测器的制备及性能测试平台 | 第81-84页 |
·AZO 探测器的结构和制备工艺 | 第81-82页 |
·AZO 探测器的性能参数测试平台 | 第82-84页 |
·表面吸附对 ZnO 探测器的光响应的影响 | 第84-86页 |
·掺 Al 对 AZO 薄膜光响应性能的影响研究 | 第86-96页 |
·不同基片和不同制备方法对探测器性能的影响 | 第86-88页 |
·Al 浓度对 AZO 探测器光响应的影响 | 第88-91页 |
·可应用于非线性电路的光敏电阻研究 | 第91-96页 |
·掺 Al 对 ZnO 薄膜的表面接触势垒的影响研究 | 第96-99页 |
·掺 Al 对 ZnO 薄膜的表面功函数的影响 | 第99-103页 |
·实验与 I-V-T 特性测试分析 | 第99-102页 |
·表面态及理论功函数计算 | 第102-103页 |
·本章小结 | 第103-105页 |
第五章 AZO 紫外光电阴极研究 | 第105-135页 |
·引言 | 第105-111页 |
·紫外光电阴极材料的研究现状 | 第105-107页 |
·NEA 光电阴极与光电发射理论 | 第107-109页 |
·AZO 紫外阴极材料的研究思路 | 第109-111页 |
·AZO 光电阴极的光电子发射实验 | 第111-115页 |
·AZO 薄膜用于反射式光电阴极 | 第112-113页 |
·AZO 薄膜用于透射式光电阴极 | 第113-115页 |
·AZO 基紫外阴极的激活研究 | 第115-123页 |
·激活理论与模型 | 第115-117页 |
·激活和转移平台 | 第117页 |
·激活实验工艺 | 第117-119页 |
·激活实验的测试结果 | 第119-123页 |
·AZO 阴极材料的分析表征 | 第123-133页 |
·TEM 分析 | 第123-125页 |
·XRD 分析 | 第125-127页 |
·XPS 分析 | 第127-131页 |
·RAMAN 分析 | 第131-133页 |
·本章小结 | 第133-135页 |
第六章 结论与展望 | 第135-138页 |
·结论 | 第135-136页 |
·本论文的创新点 | 第136-137页 |
·前景展望 | 第137-138页 |
致谢 | 第138-139页 |
参考文献 | 第139-150页 |
攻博期间取得的研究成果 | 第150-152页 |