| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·光学薄膜的发展及应用 | 第7-8页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第8-10页 |
| 第二章 薄膜的基本理论 | 第10-26页 |
| ·薄膜干涉 | 第10-14页 |
| ·薄膜反射率的计算 | 第14-22页 |
| ·膜系等效折射率的概念 | 第22-26页 |
| 第三章 红外截止滤光片的膜系设计 | 第26-38页 |
| ·产品指标 | 第26页 |
| ·膜料的选择 | 第26-27页 |
| ·膜系设计 | 第27-38页 |
| 第四章 红外截止滤光片的镀制 | 第38-53页 |
| ·真空镀膜机的原理及实验装置 | 第38-40页 |
| ·离子辅助沉积技术(IAD) | 第40-42页 |
| ·镀膜均匀性的讨论 | 第42-46页 |
| ·半波孔的产生与消除 | 第46-49页 |
| ·红外截止滤光片工艺实现 | 第49-53页 |
| 第五章 薄膜的微结构与不稳定性 | 第53-58页 |
| ·薄膜的微结构特性 | 第53-55页 |
| ·红外截止滤光片的不稳定性 | 第55-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60页 |