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先进集成电路封装复合材料—Cu/ZrW2O8制备技术的研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
第一章 绪论第12-28页
   ·电子封装材料的研究现状第12-17页
     ·引言第12页
     ·封装材料的性能要求第12-13页
     ·电子封装材料的分类第13-15页
     ·金属基电子封装材料的制备第15-17页
   ·金属—陶瓷复合粉体概述第17页
   ·Cu包覆型复合粉体的制备第17-21页
     ·非均匀成核法Cu包覆研究现状第17-19页
     ·化学镀法制备Cu包覆粉体第19-21页
   ·负热膨胀材料钨酸锆的研究进展第21-26页
     ·负热膨胀材料概述第21-23页
     ·负热膨胀材料钨酸锆(ZrW_2O_8)概述第23-24页
     ·ZrW_2O_8的负热膨胀机理第24-26页
   ·本课题的研究意义第26-28页
     ·Cu-ZrW_2O_8复合材料的应用前景第26-27页
     ·课题的提出第27-28页
第二章 分布固相法合成ZrW_2O_8粉体第28-35页
   ·固相法简介第28-30页
     ·固相反应概论第28页
     ·固相反应的机理第28页
     ·影响固相反应的因素第28-29页
     ·分步固相法合成ZrW_2O_8粉体第29-30页
   ·实验方法第30-31页
   ·粉体的物相分析第31页
   ·实验结果分析第31-34页
     ·ZrW_2O_8粉体物相分析第31-33页
     ·ZrW_2O_8热膨胀性能测试第33-34页
   ·本章小结第34-35页
第三章 非均匀成核法制备Cu-ZrW_2O_8复合粉体第35-45页
   ·影响非均匀成核反应的因素第35页
   ·实验方法第35-39页
     ·ZrW_2O_8粉体的预处理第35-36页
     ·实验原理及制备方法第36-39页
     ·非均匀沉淀后粉体的后处理第39页
   ·粉体的物相分析第39页
   ·试验结果分析第39-44页
     ·反应液浓度对包覆效果的影响第39-41页
     ·分散剂对包覆效果的影响第41-43页
     ·液相反应(滴加方式)对包覆效果的影响第43-44页
   ·本章小结第44-45页
第四章 化学镀法制备Cu-ZrW_2O_8复合粉体第45-70页
   ·化学镀实验原理及制备方法第45-49页
     ·化学镀液的组成及配制方法第45-46页
     ·ZrW_2O_8粉体的预处理第46-48页
     ·化学镀后粉体的后处理第48页
     ·增重的测定第48-49页
   ·复合粉体的物相分析第49页
   ·实验结果分析第49-68页
     ·预处理对包覆效果的影响第49页
     ·pH值对包覆效果的影响第49-54页
     ·主盐含量对包覆效果的影响第54-58页
     ·还原剂含量对包覆效果的影响第58-61页
     ·络合剂含量对包覆效果的影响第61-65页
     ·装载量对包覆效果的影响第65-68页
   ·本章小结第68-70页
第五章 Cu-ZrW_2O_8复合材料制备初探第70-79页
   ·前言第70页
   ·实验方法第70-72页
   ·复合材料的物相分析及性能测试第72页
   ·工艺探索第72-77页
     ·复合材料制备时压制压力的控制第72-75页
     ·复合材料烧结时温度的控制第75-77页
   ·复合材料性能研究第77-78页
   ·本章小结第78-79页
第六章 结论第79-80页
第七章 研究展望第80-81页
参考文献第81-85页
致谢第85-86页
在读学位期间发表的论文第86页

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